活性ラジカル溶液による基板表面洗浄システム
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概要
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超純水への超音波照射あるいは電解アノード水中におけるラジカルの発生をESRを用いて確認した。ラジカル含有液で基板表面に付着させたポリスチレンラテックス(PSL)粒子の除去効果を評価した。その結果、ラテックス粒子の除去には超音波を照射することが有効であること、超音波の照射時間は短時間でもその効果は大きいこと、洗浄液として電解イオン水が有効であること、および、ラジカルの生成が認められた洗浄液の粒子除去効率は常に高いことを明らかにした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-08-17
著者
-
山中 弘次
オルガノ株式会社
-
大見 忠弘
東北大学工学部
-
加藤 正行
山形大学工学部物質工学科
-
都田 昌之
山形大学工学部物質工学科
-
都田 昌之
山形大 工
-
今岡 孝之
オルガノ(株)
-
國本 文智
東北大学工学部電子工学科
-
今岡 孝之
東北大学工学部電子工学科
-
笠間 泰彦
東北大学工学部電子工学科
-
三森 健一
株式会社フロンテック
-
呉 義烈
株式会社フロンテック
-
都田 昌之
山形大学工学部
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