電解イオン水を用いた新しい洗浄技術 : TFT-LCDプロセスへの応用
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概要
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今回我々は、TFT-LCD基板を対象とし、電解イオン水に超音波を照射することによる電解イオン水水質物性への影響と基板表面の不純物除去効果について研究を行った。その結果、電解イオン水とメガヘルツ帯の超音波照射の相乗効果により効率的にラジカルを発生させ、電解イオン水の持つ酸化種、還元種の反応を促進させることが示唆される結果を得た。更に、電解カソード水とメガソニック超音波の併用により、基板表面の微粒子除去を有効に行えることを明らかにした。電解イオン水技術と超音波照射の併用技術は、ごくわずかな薬品の使用で、高い洗浄効果を得る技術として期待できる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-08-17
著者
-
山中 弘次
オルガノ株式会社
-
大見 忠弘
東北大学工学部
-
加藤 正行
山形大学工学部物質工学科
-
都田 昌之
山形大学工学部物質工学科
-
都田 昌之
山形大 工
-
森田 博志
栗田工業株式会社 技術開発センター
-
今岡 孝之
オルガノ(株)
-
今岡 孝之
東北大学工学部電子工学科
-
笠間 泰彦
東北大学工学部電子工学科
-
三森 健一
株式会社フロンテック
-
呉 義烈
株式会社フロンテック
-
小島 泉里
東北大学工学部電子工学科
-
久保 和樹
東北大学工学部電子工学科
-
森田 博志
東北大学工学部電子工学科
-
笠間 泰彦
株式会社フロンテック
-
吉澤 道雄
オルガノ株式会社
-
都田 昌之
山形大学工学部
-
小島 泉里
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻:野村マイクロ・サイエンス株式会社開発部
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