シランガス中における水分とシロキサン計測ならびにその挙動

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概要

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APIMS分析器を用いることにより、検出下限値が1ppb以下としてSiH_4ガス中のH_2Oが計測できることを確認した。H_2OはSiH_4とクラスター化した形にて検出される。現在、半導体製造に使用されているSiH_4ガス中のH_2Oは、1ppb以下であることも確認された。また、SiH_4ガス中にシロキサンが含まれていることも確認された。APIMS分析器によるSiH_4ガス中のH_2O計測は、300時間連続して感度が変わることなく、再現性よく計測できた。SiH_4ガスシリンダーに対して、H_2Oを添加しH_2Oの挙動を調査したが、シリンダー中においては、添加したH_2Oは検出されず、H_2OとSiH_4との反応により、シロキサンが生成されることが確認された。
社団法人電子情報通信学会の論文
1995-08-17

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