RCA洗浄溶液に生成する活性種の評価

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概要

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RCA洗浄方法は、W.Kernらによって1970年に提唱されて以来、今日までシリコンウェハの表面洗浄法として経験的に使われてきているが、未だ不明な点も多い。本研究では、このRCA洗浄溶液中のラジカル活性種について詳細な実験を行い、その評価を試みた。その結果、RCA洗浄溶液中において、Fenton反応によって反応性の高いOHラジカルが生成されることが分かった。また、OHラジカルの生成量の観点からはRCA洗浄溶液における過酸化水素と酸(例えば、HF, HClおよびH_2SO_4など)の混合比は何ら意味を持たないことが示された。さらにOHラジカルの生成に対し、pHを制御したアノード電解水の利用が可能であることが示唆された。
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-11-14

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