NF_3プラズマを用いたセルフチャンバクリーニング技術

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概要

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NF_3プラズマを用いることにより、SiO_2ドライエッチングチャンバのセルフクリーニングを行うことができることを明らかにした。また、クリーニングの終点検出は、CO、あるいは、Hの発光強度の経時変化をモニタすることにより行える。ガス分子の結合エネルギが小さいNF_3は、高密度のイオン・ラジカルを効率よく生成することができ、クリーニング特性が優れている。また、NF_3プラズマクリーニングを行うと、フッ素がチャンバ内に吸着し残留するが、Ar/H_2プラズマクリーニングにより除去することが可能である。
社団法人電子情報通信学会の論文
1995-07-28

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