シリコン(110)面の平坦化
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概要
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- 2003-10-21
著者
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
二井 啓一
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
赤堀 浩史
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第三部
-
平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
寺本 章伸
東北大学 未来科学技術研究館
-
平山 昌樹
東北大学 未来科学技術研究館
-
赤堀 浩史
東北大学 大学院工学研究科電子工学専攻
-
二井 啓一
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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