谷 クン | 東北大学工学研究科電子工学専攻

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概要

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関連著者

• 谷 クン

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 根本 剛直

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

• 伊藤 隆司

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• Teramoto Akinobu

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 伊藤 隆司

  東京工大 ソリューション研究機構

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• Philipossian Ara

  University of Arizona

• Sampurno Yasa

  University of Arizona

• Cheng Jiang

  Araca, Inc.

• Zhuang Yun

  University of Arizona

• 黒木 伸一郎

  東北大学大学院工学研究科

• Zhuang Yun

  University Of Arizona:araca Inc.

• Cheng Jiang

  Araca Inc.

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• Sampurno Yasa

  University Of Arizona:araca Inc.

• 富田 祐吾

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒木 伸一郎

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• Philipossian Ara

  University Of Arizona:araca Inc.

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著作論文

• ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)

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