小池 帆平 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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小池 帆平
産業技術総合研究所
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中川 格
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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中川 格
産業技術総合研究所
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関川 敏弘
産業技術総合研究所
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関川 敏弘
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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松本 洋平
東京海洋大学
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小池 汎平
産業技術総合研究所
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小池 汎平
産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門エレクトロインフォマティックスグループ
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遠藤 和彦
産業技術総合研究所
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遠藤 和彦
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
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石川 由紀
産業技術総合研究所
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坂井 秀男
慶應義塾大学理工学研究科
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大内 真一
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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昌原 明植
産業技術総合研究所
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松川 貴
産業技術総合研究所
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大内 真一
産業技術総合研究所
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遠藤 和彦
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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塚田 順一
産業技術総合研究所
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松川 貴
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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石黒 仁揮
慶應義塾大学
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昌原 明植
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター,ナノエレクトロニクス研究部門,産業技術総合研究所
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松川 貴
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター,ナノエレクトロニクス研究部門,産業技術総合研究所
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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石黒 仁揮
慶應義塾大学理工学研究科
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石黒 仁揮
慶應義塾大学 理工学部 電子工学科
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塚田 順一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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堤 利幸
明治大学大学院理工学研究科
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宮本 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
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坂本 邦博
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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石黒 仁揮
慶應義塾大学理工学部電子工学科
-
大内 真一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
石川 由紀
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
松川 貴
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
昌原 明植
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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河並 崇
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 エレクトロインフォマティクスグループ
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日置 雅和
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 エレクトロインフォマティクスグループ
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柳 永勲
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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日置 雅和
産業技術総合研究所
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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河並 崇
金沢工業大学情報学部情報工学系
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日置 雅和
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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松村 忠幸
超先端電子技術開発機構
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小池 帆平
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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長田 健一
超先端電子技術開発機構
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中川 八穂子
超先端電子技術開発機構
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坂本 邦博
産業技術総合研究所
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柳 永勲
産業技術総合研究所
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松川 貴
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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柳 永〓
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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日置 雅和
産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門エレクトロインフォマティックスグループ
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河並 崇
金沢工業大学
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昌原 明植
産業技術総合研究所グリーンナノエレクトロニクスセンター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学
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大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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堤 利幸
明治大学
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長田 健一
(株)日立製作所中央研究所
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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河並 崇
金沢工業大学情報工学科
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
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松本 洋平
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 エレクトロインフォマティクスグループ
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堤 利幸
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 エレクトロインフォマティクスグループ
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長田 健一
株式会社日立製作所
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小池 帆平
産総研
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十山 圭介
超先端電子技術開発機構
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柳 永シュン
産業技術総合研究所
著作論文
- 複数の回路構成情報を用いたチップ内ばらつきを有するFPGAの歩留まり向上手法の提案(設計手法,リコンフィギャラブルシステム,一般)
- 電力を再構成可能なFlex Power FPGAの低消費電力プロセスによる試作と評価(デザインガイア2010 : VLSI設計の新しい大地)
- FinFET高周波特性の高精度評価に関する研究(機能ナノデバイス及び関連技術)
- FinFET高周波特性の高精度評価に関する研究(機能ナノデバイス及び関連技術)
- ホモジニアス・タイル構造3次元FPGAの性能評価(3D-I,集積回路とアーキテクチャの協創〜3次元集積回路技術とアーキテクチャ〜)
- TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Independent-Double-Gate-FinFETの1/fノイズ特性に関する研究(アナログ,アナデジ混載,RF及びセンサインタフェース回路)