Nakazawa Hiroshi | New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

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概要

• 同名の論文著者
• New Industry Creation Hatchery Center Tohoku Universityの論文著者

関連著者

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• Nohira Hiroshi

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• Nakazawa Hiroshi

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 野平 博司

  武蔵工業大学工学部

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 服部 健雄

  武蔵工業大学工学部

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

• 服部 健雄

  武蔵工業大学

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター

• 品川 盛治

  武蔵工業大学

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 樋口 正顕

  株式会社東芝

• 池永 英司

  財団法人高照度光科学研究センター

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

• 池永 英司

  (財)高輝度光科学研究センター

• 品川 誠治

  武蔵工業大学工学部

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• 樋口 正顕

  東北大学工学研究科

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 池永 英司

  Jasri/spring-8

• TERAMOTO Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Sugawa S

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• Hattori Tetsuya

  Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology

• HIGUCHI Masaaki

  TOSHIBA CORPORATION

• SUGAWA Sigetoshi

  Tohoku University

• HATTORI Takeo

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Hirayama Masaki

  Toshiba Corporation

• Hattori T

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Hattori Takeo

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• 大見 忠弘

  東北大学

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• 荒谷 崇

  信越化学工業株式会社

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• OHMI Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 品川 盛治

  武蔵工業大学工学部

• 岡本 英介

  武蔵工業大学工学部

• 吉田 徹史

  武蔵工業大学工学部

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Ikenaga Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute

• ARATANI Takashi

  Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

• NOHIRA Hiroshi

  Musashi Institute of Technology

• Hattori Takashi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Ohmi Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center Future Information Industry Creation Center Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku Univ.

• Aratani Takashi

  Shin-etsu Chemical Co. Ltd.

• Ohmi Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan

• 小林 啓介

  物材機構

• 小林 啓介

  高輝度光科学研究センター

• 池永 英司

  Crest・jst

• 荒谷 崇

  東北大学大学院工学研究科

• 樋口 正顕

  東北大学大学院工学研究科

• Kobayashi Keisuke

  JASRI SPring8

• 加勢 正隆

  富士通株式会社

• 堀 充明

  富士通

• 堀 充明

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 加瀬 正隆

  富士通

• SUGAWA Shigetoshi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 生田 哲也

  富士通株式会社lsi事業本部

• IKENAGA Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• SUWA Tomoyuki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• USHIO Jiro

  Hitachi, Ltd.

• SHINAGAWA Seiji

  Musashi Institute of Technology

• HIRAYAMA Masaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• Ushio Jiro

  Hitachi Ltd.

• Suwa Tomoyuki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  University Of Tohoku New Industry Creation Hatchery Center (niche)

• 吉信 淳

  東大物性研

• 木村 健二

  京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻

• 中嶋 薫

  京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻

• 原田 慈久

  東大院工

• 山下 良之

  物材機構

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 池永 英司

  JASRI SPring-8

• 向井 孝三

  東大物性研

• 吉信 淳

  東京大学物性研究所

• 高田 恭孝

  理化学研究所量子秩序研究チーム

• 中嶋 薫

  京大工

• 木村 健二

  京大工

• TOKUSHIMA Takashi

  RIKEN/SPring-8

• HORIKAWA Yuka

  RIKEN/SPring-8

• 高田 恭孝

  東大新領域:理研:spring8

• 高田 恭孝

  理化学研究所放射光物性研究室-spring-8

• 徳島 高

  理研:spring8

• 田村 直義

  富士通研究所

• 徳島 高

  理研 Spring-8

• 原田 慈久

  理研 SPring-8

• 山下 良之

  東大物性研

• 小口 和博

  東大物性研

• 幸 埴

  東大物性研

• 野平 博司

  武蔵工大

• 服部 健雄

  武蔵工大

• 中嶋 薫

  京大院工

• 木村 健二

  京大院工

• 木村 健二

  京大 大学院工学研究科

• 小村 政則

  東北大学工学研究科

• 辛 埴

  理化学研究所・播磨研究所

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 牛尾 二郎

  株式会社日立製作所

• 濱田 龍文

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 武雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 小村 政則

  東北大学大学院工学研究科

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学

• 中嶋 薫

  京大 大学院工学研究科

• 加瀬 正隆

  富士通株式会社LSI事業本部

• 東 和文

  (株)液晶先端技術開発センター

• 鈴木 伸子

  総合研究大学院大学

• 山脇 師之

  総合研究大学院大学

• 鈴木 治彦

  武蔵工業大学工学部

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• KASE Masataka

  Fujitsu Ltd.

• HIGUCHI Masaaki

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• ARATANI Takashi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• HAMADA Tatsufumi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• TERAMOTO Akinobu

  The New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University

• HATTORI Takeo

  The New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University

• IKENAGA Eiji

  JASRI/SPring8

• 長谷川 覚

  武蔵工業大学工学部

• 小林 大輔

  宇宙科学研究本部

• 鹿瀬 和之

  総合研究大学院大学

• 東 和文

  液晶先端技術開発センター

• 鹿瀬 和之

  総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部

• Goto Tetsuya

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• INOKUCHI Atsutoshi

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Hirayama Masaki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Inokuchi Atsutoshi

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Terasaki Masato

  Tokyo Electron Ltd.

• SHINAGAWA Seiji

  Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology

• IKUTA Tetsuya

  Fujitsu Ltd.

• HORI Mitsuaki

  Fujitsu Ltd.

• OKAMOTO Hideyuki

  Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology

• HATTORI Takeo

  Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology

• ASAHARA Hirokazu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• TERASAKI Masato

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• NAKAZAWA Hiroshi

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• YAMANAKA Jiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 田村 直義

  富士通研

• Yamanaka Jiro

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Okamoto Hideyuki

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• 幸 埴

  東大物性研:理研 Spring-8

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業

• Hamada Tatsufumi

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Asahara Hirokazu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Kobayashi Keisuke

  Jasri/spring8

• 原田 慈久

  東京大学

• 徳島 高

  理化学研究所

• 須川 成利

  JASRI SPring8

• Ikenaga Eiji

  JASRI/Spring-8, Kouto, Mikazuki, Hyogo 679-5198, Japan

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学共同センター

• IKENAGA Eiji

  JASRI/Spring-8

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著作論文

• 28aYB-2 軟X線吸収発光分光法によるシリコン酸窒化膜/Si界面電子状態の直接観測(28aYB 表面界面電子物性,表面局所光学現象,領域9(表面・界面,結晶成長))
• NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
• 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性,AWAD2006)
• 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
• 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
• 極薄シリコン酸窒化膜の種々の結合形態にある窒素原子の深さ方向分布(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• プラズマ窒化によるシリコン酸窒化膜のX線光電子分光(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• 角度分解光電子分光法による深さ方向組成分析の高精度化の試み
• Electric characteristics of Si_3N_4 films formed by directly radical nitridation on Si (110) and Si (100) surfaces
• XPSを用いたAu/極薄SiO_2界面のバリアハイトの測定(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• high-k 膜のXPSによる評価
• ラジカル酸化および熱酸化により形成した極薄シリコン酸化膜中の電子の脱出深さ(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• Depth Profile of Various Bonding Configration of Nitrogen Atoms in Silicon Oxynitrides formed by Plasma Nitridation
• Damage-Free Microwave-Excited Plasma Contact Hole Etching without Carrier Deactivation at the Interface between Silicide and Heavily-Doped Si

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