向井 孝三 | 東大物性研
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概要
関連著者
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向井 孝三
東大物性研
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吉信 淳
東大物性研
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山下 良之
東大物性研
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吉信 淳
東京大学物性研究所
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向井 孝三
東京大学物性研究所
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吉本 真也
東大物性研
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山下 良之
物材機構
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山本 達
東大物性研
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小板谷 貴典
東大物性研
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山本 達
東京大学物性研究所
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紅谷 篤史
東大物性研
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長尾 昌志
東大物性研
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町田 真一
東大物性研
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町田 真一
Icorp Jst:物材機構
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小口 和博
東大物性研
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掛札 洋平
東大物性研
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片山 哲夫
東大物性研
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利田 祐麻
東大物性研
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塚原 規志
東京大学 大学院新領域創成科学研究科
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塚原 規志
東大物性研
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亀島 一輝
東大物性研
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田中 虔一
東大物性研
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赤木 和人
東北大WPI
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HORIKAWA Yuka
RIKEN/SPring-8
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横国大工
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豊島 弘明
横国大工
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坂口 裕二
東大物性研
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松本 祐司
東大物性研
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松本 祐司
東京大学物性研究所
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赤木 和人
東大院理
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赤木 和人
東北大
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田中 虎一
東大物性研
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浜口 香苗
東大物性研
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Hossain M.
東大物性研
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安井 芙美子
東大物性研
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清水 皇
東大物性研
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塩澤 佑一朗
東大物性研
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原田 洋介
東大物性研
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辛 埴
東大物性研
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古橋 匡幸
東大物性研
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原田 慈久
東大院工
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辛 埴
理研
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小森 文夫
東大物性研
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原田 慈久
東大院工:東大放射光機構:理研:spring-8
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徳島 高
理研:spring8
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徳島 高
理研 Spring-8
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原田 慈久
理研 SPring-8
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近藤 寛
慶応大理工
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近藤 寛
慶応大学
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大川 祐司
東大物性研
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清水 皇
東京大学物性研究所
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吉本 真也
東京大学物性研究所
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近藤 寛
慶應義塾大学
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梅山 裕史
東京大学物性研究所
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山下 良之
東京大学物性研究所
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梅山 裕史
東大物性研
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徳島 高
理化学研究所
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平賀 健太
横国大工
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奈良 安雄
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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奈良 安雄
Selete
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横山 崇
横浜市大国際総合科学
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宮脇 淳
理研
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常行 真司
東京大学大学院理学系研究科物理学専攻
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河合 伸
九大理
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原田 慈久
理研
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田中 正俊
横国大院工
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TOKUSHIMA Takashi
RIKEN/SPring-8
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高田 恭孝
東大新領域:理研:spring8
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田中 虔一
埼玉工業大学大学院工学研究科
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奈良 安雄
(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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奈良 安雄
(株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部
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田村 直義
富士通研究所
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宮脇 淳
理研:spring-8
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下山 巖
原子力機構
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関口 哲弘
原子力機構
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犬宮 誠治
Selete
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杉田 義博
Selete
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幸 埴
東大物性研
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野平 博司
武蔵工大
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服部 健雄
武蔵工大
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高田 恭孝
SPring-8
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筒井 琢仁
東大物性研
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近藤 寛
東大院理
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近藤 寛
慶應大理工化学
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高田 恭考
理研
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深澤 愛子
名古屋大理
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山口 茂弘
名古屋大理
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大野 真也
横国大院工
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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佐藤 智重
日本電子
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岩槻 正志
日本電子
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山口 茂弘
名古屋大学大学院理学研究科
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川崎 雅司
東工大総合理工
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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関場 大一郎
東大物性研
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関場 大一郎
東京大学物性研究所
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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佐藤 智重
日本電子(株)
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常行 真司
東大物性研
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常行 真司
東京大学物性研究所
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大久保 悠
東大物性研
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犬宮 誠治
(株)半導体先端テクノロジーズ
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横山 崇
横浜市立大学生命ナノ
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相原 康敏
東大物性研
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森脇 邦子
東大物性研
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井上 慧
横国大工
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赤木 和人
東京大学物性研究所
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赤木 和人
SPring-8
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河合 伸
九大院理
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Machida S.
東大物性研
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横山 崇
横浜市大国際総合
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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田村 直義
富士通研
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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幸 埴
東大物性研:理研 Spring-8
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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長尾 昌志
分子科学研究所
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Md. Zakir
東大物性研
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村瀬 加内江
東大物性研
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山本 達
東大物性研究所
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豊島 弘明
横浜国立大学大学院工学研究院
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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Lippmaa M.
東工大総合理工
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木下 智豊
東工大総合理工
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原田 慈久
東京大学
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鎌田 雅夫
佐賀大シンクロ
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高橋 和敏
佐賀大シンクロ
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水澤 岳
東大物性研
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馬場 祐治
原子力研
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平尾 法恵
原子力研
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関口 哲弘
原子力研
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下山 巌
原子力研
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則武 宏幸
東京大学物性研究所
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小板谷 貴典
東京大学物性研究所
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下山 巌
原子力機構量子ビーム
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平賀 健太
横国大院工
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藤巻 和貴
東大物性研
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山本 進
東大物性研
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井上 慧
横国大院工
-
田中 博也
横国大院工
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豊島 弘明
横国大院工
著作論文
- 21aGL-9 2-メチルプロペン終端Si(100)基板とF4-TCNQの相互作用(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aGL-10 F4-TCNQ/Cu(100)の振動と電子状態(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aYH-11 軟X線吸収発光分光法によるシリコン酸窒化膜の元素選択的価電子状態の観測(23aYH 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28aYB-2 軟X線吸収発光分光法によるシリコン酸窒化膜/Si界面電子状態の直接観測(28aYB 表面界面電子物性,表面局所光学現象,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27aRD-6 DBP-S/Cu(100)の吸着状態と配向変化(27aRD 表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25aYH-3 Rh(111)表面におけるシクロヘキサンの吸着状態とCH伸縮振動ソフトモード(ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 27aRD-8 Rh(111)表面における氷単層膜形成の微視的過程 : STM,IRASによる研究(27aRD 表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aXB-10 水素原子で修飾したRh(111)表面における水分子の吸着(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28p-YM-13 c(2x2)-N/Cu(100)面上のCo薄膜のSTM観察
- PtRh(100)面上の酸素により誘起されるp(3x1)とc(2x20)構造
- Ag(110)面上の酸素、窒素共吸着構造とその反応性
- 23pWX-5 水素修飾Rh(111)表面における吸着シクロヘキサンの超構造形成(23pWX 表面界面電子物性(有機分子),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aXA-10 エチレン終端Si(100)基板に蒸着したF_4-TCNQの電子状態 : NEXAFSと内殻光電子分光による研究(23aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pYC-5 低温Cu(100)表面における酸素分子の吸着過程(26pYC 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aRJ-5 N/Rh(111)表面でのNOダイマーの形成(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 25pTE-4 エチレン終端Si(100)基板におけるF_4-TCNQのSTM観察(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aXJ-9 Rh(111)における親水性・疎水性水単層上での氷成長(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 27aXJ-6 Si(100)非対称ダイマーへの不飽和炭化水素の環化付加反応 : マルコフニコフ則は成り立つのか?(27aXJ 表面ダイナミックス(半導体表面),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pXD-11 Si(100)における単一有機分子のSTS : 負性微分抵抗の観測(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 22aXK-8 エチレン終端Si(100)基板とF_4-TCNQの相互作用 : △Φと価電子状態(表面磁性,表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22pPSB-11 Rh(111)における水分子の付着確率と脱離キネティクス(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 23pYH-9 極低温Rh(111)における水分子の過渡的表面拡散とダイマー形成(23pYH 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23pYC-10 エチレン終端Si(100)基板に蒸着したF4-TCNQの電子状態(23pYC 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 30aPS-11 Si(100)c(4x2)表面における有機アミンの吸着状態 : 光電子分光による研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pXF-6 Rh(111)表面における水単分子層の構造(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25aXD-7 Rh(111)表面に成長させた氷薄膜の電子線誘起による結晶化(表面・界面構造,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 軟X線吸収発光分光法によるSi02/Si界面電子状態のサイト選択的観測 (第24回表面科学講演大会論文特集(3))
- 15pXE-1 軟 X 線発光分光法による SiO_2/Si 界面電子状態のサイト選択的観測(表面界面電子物性, 領域 9)
- 12aXF-13 低温 Rh(111) 表面における水分子の凝集過程 : 赤外反射吸収分光法による研究(表面界面構造 : 金属・有機化合物, 領域 9)
- 23aYE-1 Ice/CO/Rh (111) における CO の吸着状態と電子線照射効果
- 31aWD-3 高分解能内殻光電子分光法を用いた Si(100) 表面の基底状態の研究
- 19pPSB-17 高分解能Si2p光電子分光による低温Si(100)(2x1)表面の電子状態
- 19aTF-11 Si(100)(2xl)非対称ダイマーへのCOのサイト選択的吸着 : Si Zp高分解能光電子分光による研究
- 19aTF-10 Si(100)(2x1)表面における非対称ダイマーとピリジンの反応性
- 20pYD-10 STM observation of site-specific adsorption for Lewis base molecules on Si(100)c(4x2)
- 28aYQ-2 Yへの水素の吸着・吸蔵とそれにともなう電子状態の変化 : 光電子分光による研究
- 22aWA-9 高分解能Si2p光電子分光による不飽和炭化水素/Si(100)(2×1)ハイブリッド系の電子状態
- 24pY-12 Si(100)-有機分子ハイブリッド系の構築(1) : 簡単な環状不飽和炭化水素
- 25pXD-6 Pt(997)表面におけるNO分子の拡散過程(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 13aXG-6 Pt(997) 表面における NO の吸着構造 : STM による観察(表面ナノ構造量子物性・表面局所光学現象, 領域 9)
- 27aYE-6 極低温Pt(997)表面におけるNO分子の吸着と過渡的表面拡散(表面界面ダイナミクス(分子))(領域9)
- 29aZE-2 Pt(997) における CO の過渡的拡散 : 極低温 IRAS による観察とモデルによる平均変位のみつもり
- 28aXE-10 Si(100)(2×1)における1, 4-シクロヘキサジエン吸着状態の被覆量依存性
- 15pXG-8 分子吸着による Si(100)c(4×2) 相のピニング (1) : STM(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- Si(100)表面へのエチレンの環化付加反応における前駆状態の直接観測
- 27pPSA-32 Si(100)表面におけるビニルブロマイド吸着過程のSTMによる直接観測(領域9ポスターセッション)(領域9)
- 23aYC-12 Si(100) におけるビニルブロマイドの前駆状態を経由した化学吸着過程
- 26pTH-4 エチレン終端Si(100)基板に吸着したF_4-TCNQの電子状態と配向 : 高分解能XPSとNEXAFSによる研究(26pTH 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- OME2000-54 原子レベルで制御されたハイブリッド構造の創成と物性探索
- 28pTN-10 独立駆動型4探針装置によるペンタセン薄膜のトランジスタ特性測定(28pTN 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 28pTN-9 化学修飾したSi(100)表面におけるペンタセンの薄膜成長とエネルギーレベルアラインメント(28pTN 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 15pXG-9 分子吸着による Si(100)c(4×2)相のピニング (2) : LEED(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 30aTA-9 低温IRAS/STMによる吸着分子の観察 : CO/Pt(997)
- 22aHA-3 Pt(997)表面上におけるTTFの吸着状態に関するHREELSおよびHRXPSによる研究(22aHA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aHA-6 Rh(111)表面におけるシクロヘキサンの吸着構造に関する同位体効果(21aHA 表面界面構造(有機化合物),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pTG-11 エチレン終端Si(100)表面に成長させたペンタセン薄膜のF4-TCNQによるエネルギーアラインメント制御(22pTG 界面デバイス・有機表面界面,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pXD-8 エチレン/Si(100)の前駆状態から化学吸着状態への光誘起反応(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 23pWA-6 SrTiO_3(100)基板におけるLa_Sr_xMnO_3の成長とステップ細線形成 : XPSとSPMによる研究
- 29aZF-2 Si(100) 表面上の C 欠陥の新しいモデル
- 25pXD-10 低温Si(100)における吸着1,4-シクロヘキサジエンの前駆状態 : UPSによる研究(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 24aCK-8 Cu(100)表面に吸着したカリウム原子の分布と電子状態 : 低温STMによる研究(24aCK 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pPSB-22 表面修飾Si(001)表面上のα-sexithiophene分子の構造と電子状態(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 19aFE-1 表面修飾Si(001)表面上のα-sexithiophene超薄膜の構造(19aFE 表面界面構造・水素ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aHA-10 エチレン終端Si(100)表面とペンタセン薄膜に挟まれたF_4-TCNQの電子状態(20aHA 界面デバイス2,領域7(分子性固体・有機導体))
- 20aHA-9 化学修飾によって制御されたSi(100)基板とF_4-TCNQの相互作用・電子状態(20aHA 界面デバイス2,領域7(分子性固体・有機導体))
- 18pFN-4 Cu(997)に吸着したCO_2におけるFano形状振動ピークの観測(18pFN 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aYC-10 Ge(100) 表面におけるピリジンの吸着と配向 : 価電子帯光電子分光による研究
- 19pPSB-47 Si(100)表面上におけるシクロヘキセンの吸着状態の温度依存性
- 28pXK-7 CO/Pt(997)系におけるステップ近傍の電荷移動挙動 : 高分解能X線光電子分光による研究(28pXK 表面界面電子物性・金属,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pXZA-7 F_4-TCNQ分子を用いたホールドーピングによる自然酸化Si(111)表面の電気伝導度変化(27pXZA 表面界面電子物性・有機分子,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pXZA-2 Rh(111)におけるシクロヘキサンのエネルギー準位アラインメント:界面双極子と終状態効果(27pXZA 表面界面電子物性・有機分子,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 8aSP-12 アモルファス氷におけるCOの化学反応 : (2)メタノールの生成(表面界面ダイナミクス,領域9)
- 8aSP-11 アモルファス氷におけるCOの化学反応 : (1)CO2の生成(表面界面ダイナミクス,領域9)
- 28pJA-9 Si(111)表面にアンカーさせたフェニル化合物の構造と電気伝導(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28aJB-2 Cu(111)表面におけるギ酸分解反応のキネティクス(表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pYF-10 低温Rh(111)表面における非晶質・結晶性氷 : IRASによる研究(27pYF 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長分野))
- 7aSN-13 Si(100)表面における非対称ダイマーの反応性(結晶成長・表面界面ダイナミクス,領域9)
- 25aYF-8 エチレン/Si(100)における高分解能光電子分光による振動分離されたClsスペクトルの観測(25aYF 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長分野))
- 28pPSA-38 不活性化したSi(001)表面上のオリゴチオフェン薄膜の電子状態(28pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面・結晶成長))