東 和文 | (株)液晶先端技術開発センター
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概要
関連著者
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東 和文
(株)液晶先端技術開発センター
-
中田 行彦
株式会社液晶先端技術開発センター
-
佐々木 厚
株式会社液晶先端技術開発センター
-
野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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高田 恭孝
理化学研究所量子秩序研究チーム
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小林 啓介
高輝度光科学研究センター
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高田 恭孝
東大新領域:理研:spring8
-
高田 恭孝
理化学研究所放射光物性研究室-spring-8
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平野 拓一
東京工業大学
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東 和文
株式会社液晶先端技術開発センター
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服部 健雄
武蔵工業大学工学部
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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辛 埴
理化学研究所・播磨研究所
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岡本 哲也
株式会社液晶先端技術開発センター
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
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吉田 徹史
武蔵工業大学工学部
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後藤 真志
株式会社液晶先端技術開発センター
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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服部 健雄
武蔵工業大学
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広川 二郎
東京工業大学電気電子工学専攻
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安藤 真
東京工業大学 電気電子工学専攻
-
安藤 真
東京工業大学
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井出 哲也
株式会社液晶先端技術開発センター
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高橋 健介
武蔵工大工
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高橋 健介
武蔵工業大学工学部
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セマン ムスタファ
武蔵工業大学工学部
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広川 二郎
東京工業大学
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塩路 昌利
武蔵工業大学工学部
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中田 行彦
(株)液晶先端技術開発センター
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白石 貴義
武蔵工業大学工学部
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東 和文
液晶先端技術開発センター
-
松村 正清
(株)液晶先端技術開発センター
-
平松 雅人
(株)液晶先端技術開発センター
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広川 二郎
電気電子工学専攻
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安藤 真
電気電子工学専攻
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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セマン ムスタファ
武蔵工業大学 工学部
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中田 行彦
立命館アジア太平洋大
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中野 悠介
東京工業大学大学院 電気電子工学専攻
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品川 盛治
武蔵工業大学工学部
-
岡本 英介
武蔵工業大学工学部
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SEMAN Mustafa
武蔵工業大学工学部
-
中野 悠介
電気電子工学専攻
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中田 行彦
株式会社 液晶先端技術開発センター
-
東 和文
株式会社 液晶先端技術開発センター
-
岡本 哲也
株式会社 液晶先端技術開発センター
-
後藤 真志
株式会社 液晶先端技術開発センター
-
品川 盛治
武蔵工業大学
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井出 哲也
液晶先端技術開発センター
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佐々木 厚
液晶先端技術開発センター
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中田 行彦
液晶先端技術開発センター
-
Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
著作論文
- B-1-207 金属柵・真空窓を有するプラズマ励振用1m^2級一層構造導波管スロットアレーの設計(B-1. アンテナ・伝播B(アンテナ一般), 通信1)
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用
- B-1-213 プラズマ励振用 1m^2 級一層構造導波管アレーの開口分布測定
- SC-8-9 次世代低温Poly-Si TFT用のゲート絶縁膜技術
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性
- ラジカル酸化および熱酸化により形成した極薄シリコン酸化膜中の電子の脱出深さ(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 金属柵・真空窓を有するプラズマ励振用1m^2級一層構造導波管スロットアレーの設計
- 次世代TFT作製に向けたシリコン結晶化技術
- 次世代TFT用シリコン薄膜結晶化技術