松村 正清 | (株)液晶先端技術開発センター

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概要

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関連著者

• 松村 正清

  (株)液晶先端技術開発センター

• 平松 雅人

  (株)液晶先端技術開発センター

• 東 和文

  (株)液晶先端技術開発センター

• 中田 充

  東京工業大学工学部:(現)日本電気(株)necラボラトリーズ機能デバイス研究所

• 松村 正清

  東京工業大学工学部:(現)(株)液晶先端技術開発センター

• 井上 弘毅

  東京工業大学工学部

• 谷口 幸夫

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 井上 弘毅

  東京工業大学工学部:(現)(株)半導体エネルギー研究所

• 木村 嘉伸

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 十文字 正之

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 平松 雅人

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 松村 正清

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 松村 正清

  低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集編集委員会

• 松村 正清

  東京工業大学

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著作論文

• シリコン薄膜の振幅・位相制御エキシマレーザ溶融再結晶化法 : 新しい2-D位置制御大結晶粒形成法(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• 次世代TFT作製に向けたシリコン結晶化技術
• 次世代TFT用シリコン薄膜結晶化技術
• われわれの論文誌の魅力を増すために : IPAPにおける努力
• 位相変調エキシマレーザ結晶化特性に及ぼす光強度分布の効果
• 低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集の発行にあたって(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• エキシマレーザー光照射による巨大結晶粒シリコン薄膜
• SC-8-1 Si大結晶粒のパルスレーザ誘起成長

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