SC-8-1 Si大結晶粒のパルスレーザ誘起成長
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-03-07
著者
関連論文
- シリコン薄膜の振幅・位相制御エキシマレーザ溶融再結晶化法 : 新しい2-D位置制御大結晶粒形成法(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- 次世代TFT作製に向けたシリコン結晶化技術
- 次世代TFT用シリコン薄膜結晶化技術
- われわれの論文誌の魅力を増すために : IPAPにおける努力
- 位相変調エキシマレーザ結晶化特性に及ぼす光強度分布の効果
- 低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集の発行にあたって(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- エキシマレーザー光照射による巨大結晶粒シリコン薄膜
- SC-8-1 Si大結晶粒のパルスレーザ誘起成長