岡本 哲也 | 株式会社液晶先端技術開発センター

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概要

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• 岡本 哲也

  株式会社液晶先端技術開発センター

• 中田 行彦

  株式会社液晶先端技術開発センター

• 東 和文

  (株)液晶先端技術開発センター

• 後藤 真志

  株式会社液晶先端技術開発センター

• 佐々木 厚

  株式会社液晶先端技術開発センター

• 東 和文

  株式会社液晶先端技術開発センター

• 中田 行彦

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部:(現)(株)液晶先端技術開発センター第1研究部

• 糸賀 隆志

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 石井 裕

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 平野 拓一

  東京工業大学

• 広川 二郎

  電気電子工学専攻

• 安藤 真

  電気電子工学専攻

• 石井 裕

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部

• 中田 行彦

  立命館アジア太平洋大

• 中野 悠介

  東京工業大学大学院 電気電子工学専攻

• 岡本 哲也

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 浜田 敏正

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 中野 悠介

  電気電子工学専攻

• 中田 行彦

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 東 和文

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 岡本 哲也

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 後藤 真志

  株式会社 液晶先端技術開発センター

• 糸賀 隆志

  シャープ株式会社 液晶天理開発本部 液晶研究所

• 石井 裕

  シャープ株式会社

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著作論文

• 光酸化膜とSiH_4とN_2OガスからのPECVD膜を積層した低温多結晶Si薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• 液晶用高性能薄膜トランジスタに用いる光酸化とプラズマCVDの積層低温ゲート絶縁膜 (特集 液晶)
• 光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用
• B-1-213 プラズマ励振用 1m^2 級一層構造導波管アレーの開口分布測定
• SC-8-9 次世代低温Poly-Si TFT用のゲート絶縁膜技術

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