光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用
スポンサーリンク
概要
著者
-
佐々木 厚
株式会社液晶先端技術開発センター
-
東 和文
株式会社液晶先端技術開発センター
-
中田 行彦
株式会社液晶先端技術開発センター
-
岡本 哲也
株式会社液晶先端技術開発センター
-
中田 行彦
立命館アジア太平洋大
-
東 和文
(株)液晶先端技術開発センター
-
後藤 真志
株式会社液晶先端技術開発センター
関連論文
- B-1-207 金属柵・真空窓を有するプラズマ励振用1m^2級一層構造導波管スロットアレーの設計(B-1. アンテナ・伝播B(アンテナ一般), 通信1)
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 光酸化膜とSiH_4とN_2OガスからのPECVD膜を積層した低温多結晶Si薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- 液晶用高性能薄膜トランジスタに用いる光酸化とプラズマCVDの積層低温ゲート絶縁膜 (特集 液晶)
- 1G04 アジアを目指したベンチャー企業と文科系大学の新しい産学連携 : 多文化環境を活かした立命館アジア太平洋大学の提案と実践( 産学連携の再考 (1))
- 1E18 液晶テレビにおける日本と韓国の競争力 : 日本の競争力の原点 ;「暗黙知」の「擦り合わせ」( 競争力の二極化 (1))
- 東アジアの液晶産業の競争力比較--「日本型技術経営」への期待
- 2L11 液晶産業から見たアジアのイノベーション・システム((ホットイシュー) アジアのイノベーション・システム (5), 第20回年次学術大会講演要旨集II)
- 1J20 「技術経営」に対する認知度と企業ニーズの現状 : 九州地場企業と立命館アジア太平洋大学の調査から(技術経営, 第20回年次学術大会講演要旨集I)
- 光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用
- B-1-213 プラズマ励振用 1m^2 級一層構造導波管アレーの開口分布測定
- SC-8-9 次世代低温Poly-Si TFT用のゲート絶縁膜技術
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性
- ラジカル酸化および熱酸化により形成した極薄シリコン酸化膜中の電子の脱出深さ(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 金属柵・真空窓を有するプラズマ励振用1m^2級一層構造導波管スロットアレーの設計
- 次世代TFT作製に向けたシリコン結晶化技術
- 次世代TFT用シリコン薄膜結晶化技術