高橋 健介 | 武蔵工業大学工学部
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概要
関連著者
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高橋 健介
武蔵工大工
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高橋 健介
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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東京工大 フロンティア研究機構
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服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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武蔵工業大学工学部
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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セマン ムスタファ
武蔵工業大学工学部
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廣瀬 和之
総合研究大学院大学
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廣瀬 和之
総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部
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廣瀬 和之
宇宙科学研
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白石 貴義
武蔵工業大学工学部
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廣瀬 和之
宇宙科学研究所
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高橋 敏男
東京大学物性研究所
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高田 恭孝
理化学研究所量子秩序研究チーム
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小林 啓介
高輝度光科学研究センター
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高田 恭孝
東大新領域:理研:spring8
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高田 恭孝
理化学研究所放射光物性研究室-spring-8
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中田 行彦
株式会社液晶先端技術開発センター
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依田 芳卓
Jasri
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依田 芳卓
高輝度光科学研究センター
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三木 一司
物材機構
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隅谷 和嗣
東大物性研
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隅谷 和嗣
東京大学物性研究所
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三木 一司
電総研
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セマン ムスタファ
武蔵工業大学 工学部
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理化学研究所・播磨研究所
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東大新領域
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矢代 航
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武蔵工業大学工学部
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塩路 昌利
武蔵工業大学工学部
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(株)液晶先端技術開発センター
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中田 行彦
(株)液晶先端技術開発センター
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武蔵工業大学工学部
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
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三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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依田 芳卓
高輝度光科学研究
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鈴木 基史
京大院工
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鈴木 基史
京大
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大見 俊一郎
東京工業大学
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大見 俊一郎
東京工業大学総合理工学研究科
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大見 俊一郎
東京工業大学・総合理工学研究科
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岩井 洋
東工大フロンティア研
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中嶋 薫
京都大学大学院工
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鈴木 基史
京都大学大学院工
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木村 健二
京都大学大学院工
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矢代 航
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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三木 一司
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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中村 智裕
武蔵工業大学工学部
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東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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柏木 郁未
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BIN SEMAN
武蔵工業大学工学部
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岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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岩井 洋
東京工業大学
著作論文
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- SiO_2/Si界面下に誘起された格子歪み : 位相敏感X線回折法による(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 位相敏感X線回折法によるSiO_2/Si界面以下の微小歪みの測定(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- X線光電子分光法による極薄シリコン酸化膜の高精度膜厚算出
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性
- SiO_2/Si(111)界面における価電子に対するエネルギー障壁
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