隅谷 和嗣 | 東京大学物性研究所
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概要
関連著者
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高橋 敏男
東京大学物性研究所
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東大物性研
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Jasri
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物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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東京工大 フロンティア研究機構
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物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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著作論文
- SiO_2/Si界面下に誘起された格子歪み : 位相敏感X線回折法による(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 位相敏感X線回折法によるSiO_2/Si界面以下の微小歪みの測定(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- X線回折によるSi(111)-√×√-Ag表面構造解析と相転移研究