隅谷 和嗣 | 東大物性研
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
隅谷 和嗣
東大物性研
-
高橋 敏男
東大物性研
-
高橋 敏男
東京大学物性研究所
-
張 小威
高エネ研物構研
-
杉山 弘
Kek Pf
-
中谷 信一郎
東大物性研
-
河田 洋
Kek物構研
-
依田 芳卓
Jasri
-
秋本 晃一
名大院工
-
秋本 晃一
名工大
-
田尻 寛男
JASRI
-
秋本 晃一
名大工
-
田尻 寛男
高輝度光科学研究センター
-
矢代 航
東大新領域
-
矢代 航
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
-
依田 芳卓
JASRI, SPring-8
-
三木 一司
物材機構
-
三木 一司
電総研
-
三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
-
三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
-
三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
-
三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
-
三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
-
三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
-
杉山 弘
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
-
高橋 健介
武蔵工大工
-
田尻 寛男
東大物性研
-
服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
-
杉山 弘
高エ研
-
河田 洋
高エ研
-
吉田 隆司
東大物性研
-
張 小威
高エ研
-
隅谷 和嗣
東京大学物性研究所
-
張 小威
物構研PF
-
張 小威
高エ研PF
-
岡野 達雄
東大生研
-
星野 崇
東大物性研
-
依田 芳卓
高輝度光科学研究センター
-
坂田 修身
JASRI
-
張 小威
物構研
-
服部 健雄
武蔵工大工
-
野島 昭信
東大物性研
-
矢代 航
物材機構ナノマテ
-
三木 一司
物材機構ナノマテ
-
高橋 健介
武蔵工業大学工学部
-
服部 健雄
武蔵工業大学工学部
-
増沢 航介
東大物性研
-
草野 修治
東大物性研
-
松本 益明
東大生産研
-
岡野 達雄
東大生産研
-
草野 修治
物材機構
-
杉山 弘
KEK物構研
-
服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
-
服部 健雄
武蔵工業大学
-
依田 芳卓
高輝度光科学研究
-
一宮 彪彦
原子力機構先端基礎研
-
張 小威
KEK-PF
-
河田 洋
物構研
-
河田 洋
KEK-PF
-
河田 洋
高エ研PF^c
-
一宮 彪彦
名大工
-
一宮 彪彦
名古屋大学大学院工学研究科
-
高橋 正光
原研関西研
-
VOEGELI Wolfgang
東大物性研
-
杉山 弘
高エ研PF
-
野島 健大
東大物性研
-
新井 大輔
東大物性研
-
Vobegeli Wolfgang
東大物性研
-
橋本 光博
東大物性研
-
高橋 正光
原研SPring-8
-
Voegeli W.
東大物性研
-
宇佐美 徳隆
東北大金研
-
安藤 正海
高エネルギー加速器研究機構
-
矢代 航
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
-
三木 一司
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
-
矢代 航
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
-
三木 一司
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
-
矢代 航
産総研
-
三木 一司
産総研
-
杉山 弘
KEK-PF
-
杉山 弘
物構研
-
白木 靖寛
都市大総研
-
矢代 航
東大物性研
-
安藤 正海
物構研PF
-
白木 靖寛
東大先端研
-
坂田 修身
Jst-crest:高輝度光科学研
-
坂田 修身
高輝度光科学研究センター
-
坂田 修身
Spring-8 Jasri
-
坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター
-
Voegeli W.
名大工
-
青山 朋弘
名大工
-
浦田 明晃
名大工
-
久田 祥之
デンソー基礎研
-
光岡 義仁
デンソー基礎研
-
向中野 信一
デンソー基礎研
-
白木 靖寛
東大院工
-
一宮 彪彦
名古屋大学
-
一宮 彪彦
名古屋大学工学部
-
杉山 弘
高工研PF
-
張 小威
高工研PF
-
河田 洋
高工研PF
-
張 小威
KEK物構研
-
宇佐見 徳隆
東北大金研
-
坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門
-
坂田 修身
高輝度光科学研究センター放射光研究所利用促進部門
-
畑 敦
名大工
-
安藤 正海
東京理科大学・総合研究機構 基礎工学研究科
-
Wolfgang Voegeli
東大物性研
-
Voegelin Wolfgang
KEK-PF
-
入沢 寿史
東大院工
著作論文
- 13aTJ-9 SiO_2/Si 界面下に誘起されたメゾスコピックスケール歪みの解明 : 位相敏感 X 線回折法による(X 線・粒子線 : X 線, 領域 10)
- 14pXG-10 SiO_2/Si 界面下に誘起された歪み場中の静的構造揺らぎ(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- SiO_2/Si界面下に誘起された格子歪み : 位相敏感X線回折法による(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 位相敏感X線回折法によるSiO_2/Si界面以下の微小歪みの測定(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 19aTH-5 多波回折を利用したSiO_2/Si界面付近の微小歪みの測定
- 26pXC-4 X線回折によるSi(111)-6×1(3×1)-Ag表面の3次元的な原子配列の研究(表面・界面構造(シリコン表面),領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 20aPS-27 X 線 CTR 散乱低温試料マニピュレータの開発と Si(111)-6x1-Ag 表面構造の研究
- 23aYH-3 ブラッグ反射励起条件下のCTR散乱とその応用
- 22aXJ-10 酸化によるSiC(0001)-3×3と√×√-R30°表面構造の変化(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 30aPS-35 表面X線回折法による埋もれたSi(111)-5×2-Au構造の研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-36 表面X線回折法によるSi(111)-Auの埋もれた界面構造の研究(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aYH-5 蛍光X線ホログラフィによるGe/Si(001)量子ドット構造の研究
- 19pPSB-33 微小角入射X線回折法によるSi(111)-√×√-Ag表面の低温相の構造評価II
- 27aXE-4 微小角入射X線回折法によるSi(111)√×√-Ag表面の低温相の構造評価
- 24pPSA-13 表面X線回折法によるSi(111)-√×√-(Ag+Au)表面の構造解析
- X線回折によるSi(111)-√×√-Ag表面構造解析と相転移研究
- 7aSM-6 表面X線回折法によるSi(111)-√3×√3-Ag表面の相転移研究(表面界面構造・電子物性,領域9)
- 27pWG-1 表面X線回折を用いたイメージング法によるSi/Ge/Si(001)界面構造解析(27pWG X線・粒子線,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性分野))