13aTJ-9 SiO_2/Si 界面下に誘起されたメゾスコピックスケール歪みの解明 : 位相敏感 X 線回折法による(X 線・粒子線 : X 線, 領域 10)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2004-08-25
著者
-
依田 芳卓
JASRI, SPring-8
-
高橋 敏男
東京大学物性研究所
-
高橋 敏男
東大物性研
-
依田 芳卓
Jasri
-
三木 一司
物材機構
-
服部 健雄
武蔵工大工
-
矢代 航
物材機構ナノマテ
-
隅谷 和嗣
東大物性研
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高橋 健介
武蔵工大工
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三木 一司
物材機構ナノマテ
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三木 一司
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服部 健雄
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矢代 航
東大新領域
-
矢代 航
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
-
服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
-
三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
-
三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
-
三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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