21pXJ-6 X線回折によるSi(111)表面上のFeシリサイド薄膜構造解析(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2007-08-21

著者

• 白澤 徹郎

  東京大学物性研究所

• 服部 梓

  阪大院工

• 若林 裕助

  阪大基礎工

• 若林 裕輔

  物構研

• 高橋 敏男

  東京大学物性研究所

• 白澤 徹郎

  東大物性研

• 関口 浩司

  東大物性研

• 高橋 敏男

  東大物性研

• 若林 祐助

  物構研

• 岩沢 勇作

  東大物性研

• 野島 健大

  東大物性研

• 新井 大輔

  東大物性研

• Vobegeli Wolfgang

  東大物性研

• 服部 賢

  奈良先端大物質創成

• 服部 梓

  奈良先端大物質創成

• 若林 裕助

  高工研PF

• Voegeli W.

  東大物性研

• 服部 賢

  奈良先端大物質

• 服部 賢

  奈良先端大

• Wolfgang Voegeli

  東大物性研

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