高橋 敏男 | 東京大学物性研究所
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概要
関連著者
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高橋 敏男
東京大学物性研究所
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高橋 敏男
東大物性研
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白澤 徹郎
東京大学物性研究所
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白澤 徹郎
東大物性研
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Voegeli W.
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杉山 弘
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名大院工
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名工大
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隅谷 和嗣
東大物性研
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松下 正
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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依田 芳卓
Jasri
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荒川 悦雄
東京学芸大
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阿部 誠
東大物性研
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田尻 寛男
JASRI
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田尻 寛男
高輝度光科学研究センター
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高橋 敏男
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高エネ研物構研
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松下 正
高エ研
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松下 正
Kek-pf
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久保 公孝
東大物性研
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秋本 晃一
名大工
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矢代 航
東大新領域
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矢代 航
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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栃原 浩
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栃原 浩
九大総理工
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関口 浩司
東大物性研
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河田 洋
Kek物構研
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新井 大輔
東大物性研
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栃原 浩
北大触媒研
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三木 一司
物材機構
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高山 透
東大物性研
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高橋 健介
武蔵工大工
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三木 一司
電総研
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
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三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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荒川 悦雄
東京学芸大学教育学部自然科学系基礎自然科学講座物理科学分野
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依田 芳卓
JASRI, SPring-8
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中谷 信一郎
東大物性研
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吉田 隆司
東大物性研
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依田 芳卓
高輝度光科学研究センター
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岩沢 勇作
東大物性研
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杉山 弘
高エ研PF
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野島 健大
東大物性研
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橋本 光博
東大物性研
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隅谷 和嗣
東京大学物性研究所
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辛 埴
東大物性研
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木下 豊彦
JASRI, SPring-8
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張 小威
KEK-PF
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岡野 達雄
東大生研
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原田 慈久
RIKEN Spring-8
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原田 慈久
東大院工:東大放射光機構:理研:spring-8
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HORIKAWA Yuka
RIKEN/SPring-8
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室隆 佳之
JASRI
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平野 馨一
KEK-PF
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室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
JASRI
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木下 豊彦
Jasri
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服部 健雄
武蔵工大工
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室 桂隆之
JASRI SPring-8
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野積 洋介
東大物性研
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矢代 航
物材機構ナノマテ
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三木 一司
物材機構ナノマテ
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高橋 健介
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
武蔵工業大学工学部
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杉山 弘
KEK-PF
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松本 益明
東大生産研
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岡野 達雄
東大生産研
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草野 修治
物材機構
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坂田 修身
Jst-crest:高輝度光科学研
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
Spring-8 Jasri
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坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター
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服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
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室 隆桂之
JASRI
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日野 正裕
京大炉
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北口 雅暁
京大炉
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田中 悟
九大院工
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森田 晋也
理研
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杉山 和正
東北大金研
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關 義親
京大理
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広田 克也
理研
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大竹 淑恵
理研
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岩下 芳久
京大化研
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市川 雅浩
京大化研
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大竹 淑惠
理研
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木村 滋
JASRI
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原田 慈久
東大院工
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服部 梓
阪大院工
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為則 雄祐
JASRI, SPring-8
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梶原 堅太郎
JASRI
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八木 直人
JASRI, SPring-8
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若林 裕助
阪大基礎工
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一宮 彪彦
原子力機構先端基礎研
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広井 善二
東大物性研
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豊川 秀訓
SPring-8 JASRI
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廣井 善二
東大物性研
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若林 裕輔
物構研
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室 隆桂之
財団法人高輝度光科学研究センター
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佐々木 聡
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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吉澤 英樹
東大
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豊川 秀訓
JASRI
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杉山 弘
高エ研
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鶴巻 厚
東大物性研
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森田 康平
九大院工
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水野 清義
九大院総理工
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Mizutani Teruyoshi
Department Of Electrical Engineering School Of Engineering Nagoya University
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杉山 和正
東北大学金属材料研究所
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小林 英一
Saga-ls
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今井 康彦
JASRI
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豊川 秀訓
高輝度光科学研究セ
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関 義親
京大理
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室隆 桂之
JASRI
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星野 崇
東大物性研
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吉田 学史
九大総理工
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森田 康平
九大総理工
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水野 清義
九大総理工
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TOKUSHIMA Takashi
RIKEN/SPring-8
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若林 祐助
物構研
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吉沢 英樹
東大物性研
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徳島 高
RIKEN SPring-8
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林 賢二郎
九大院総理工
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林 賢二郎
九大総理工
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河田 洋
KEK-PF
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徳島 高
理研:spring8
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河田 洋
高エ研PF^c
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一宮 彪彦
名大工
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一宮 彪彦
名古屋大学大学院工学研究科
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安達 智宏
理研
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為則 雄祐
Jasri
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依田 芳卓
財団法人高輝度光科学研究センター
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VOEGELI Woflgang
東大物性研
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服部 賢
奈良先端大物質創成
-
服部 梓
奈良先端大物質創成
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若林 裕助
高工研PF
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日野 正裕
京大原子炉
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栃原 浩
北大触媒セ
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栃原 浩
物性研
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為則 雄祐
Jasri/spring-8
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堀川 裕加
理研 SPring-8
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森 健太郎
九大総理工
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堀川 裕加
RIKEN Spring-8
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森田 晋也
理化学研究所
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八木 直人
高輝度光科学研究センター
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宇佐美 徳隆
東北大金研
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東 相吾
九大総理工
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八木 直人
財団法人高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門
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八木 直人
Jasri
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八木 直人
高輝度光科学研究センター放射光研究所利用促進部門ii
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野島 昭信
東大物性研
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依田 芳卓
SPring-8, JASRI
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矢代 航
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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三木 一司
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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矢代 航
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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三木 一司
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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広田 克也
(財)高輝度光科学研究センター
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山形 豊
理研
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山形 豊
理化学研究所
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増沢 航介
東大物性研
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北口 雅暁
京大原子炉
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白木 靖寛
都市大総研
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安達 智宏
第一機電
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百生 敦
東大新領域
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今井 康彦
Jasri:jsti Crest
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梶原 堅太郎
Jasri Spring-8
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平野 馨一
高エネ研物構研
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森田 晋也
(独)理化学研究所
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服部 賢
奈良先端大物質
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白木 靖寛
武蔵工大総研
-
山形 豊
理化学研究所vcad加工応用チーム
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八木 直人
高輝度光研
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康江 拓
東大物性研
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Voegeli W.
名大工
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青山 朋弘
名大工
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浦田 明晃
名大工
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久田 祥之
デンソー基礎研
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光岡 義仁
デンソー基礎研
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向中野 信一
デンソー基礎研
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杉山 弘
KEK物構研
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草野 修治
物材ナノマテ研
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杉山 弘
Musashi Insts. of Tech.
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河田 弘
PF
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一宮 彪彦
名古屋大学
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一宮 彪彦
名古屋大学工学部
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服部 賢
奈良先端大
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Morita Shinya
Ohmori Materials Fabrication Laboratory The Institute Of Physical And Chemical Research
-
張 小威
高エ研PF
-
杉山 弘
高工研PF
-
張 小威
高工研PF
-
河田 洋
高工研PF
-
朱 正明
理化学研究所
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杉山 和正
東北大・選研
著作論文
- 22pGQ-2 Atomic structure of the Si(553)-Au surface
- 特集にあたって-放射光とX線結晶学, この15年
- 22pPSA-8 軟X線吸収・発光分光法によるSiON/SiC(0001)のバンドオフセット構造の研究(22pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28pRE-10 X線CTR散乱を利用した超薄膜界面原子の3次元再構成法(28pRE 領域10,領域5合同 X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
- 24pPSA-23 表面X線回折法を用いたSi(111)-5×2-Au表面の構造解析(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21pXJ-6 X線回折によるSi(111)表面上のFeシリサイド薄膜構造解析(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 20aPS-32 表面X線回折法を用いたSi(111)-Au表面構造の研究(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 25pTD-5 軟X線吸収及び発光分光法によるSiON/SiC(0001)超薄膜の元素選択的電子状態の研究(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 13aTJ-10 動力学的回折効果を利用した X 線パラメトリック散乱の観測(X 線・粒子線 : X 線, 領域 10)
- 13aTJ-9 SiO_2/Si 界面下に誘起されたメゾスコピックスケール歪みの解明 : 位相敏感 X 線回折法による(X 線・粒子線 : X 線, 領域 10)
- 14pXG-10 SiO_2/Si 界面下に誘起された歪み場中の静的構造揺らぎ(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- SiO_2/Si界面下に誘起された格子歪み : 位相敏感X線回折法による(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 位相敏感X線回折法によるSiO_2/Si界面以下の微小歪みの測定(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 26pXC-4 X線回折によるSi(111)-6×1(3×1)-Ag表面の3次元的な原子配列の研究(表面・界面構造(シリコン表面),領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 21pHT-6 CTR散乱ホログラフィー(21pHT 領域10,領域9,領域1合同シンポジウム:原子分解能をもつX線・電子線ホログラフィー,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 27aXD-7 微小角入射条件におけるX線90度ブラッグ反射の研究(27aXD X線,粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
- 26pPSB-31 Structures of Pb on high-index Si surfaces
- 29pPSB-58 Si(553)-Auの表面構造の研究(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22aXJ-10 酸化によるSiC(0001)-3×3と√×√-R30°表面構造の変化(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 25aYH-6 電子線照射によるSn/Ge(111)-3×3表面構造の変化(ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 27aTE-3 X線回折によるMnSi/Si(111)界面構造の研究(27aTE 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 13aTJ-8 X 線回折を利用した Si/Ge/Si(001) 結晶における Ge island の歪みについての研究(X 線・粒子線 : X 線, 領域 10)
- 30aPS-35 表面X線回折法による埋もれたSi(111)-5×2-Au構造の研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-36 表面X線回折法によるSi(111)-Auの埋もれた界面構造の研究(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aWS-1 Low temperature superstructure formation in gold atomic chains on high-index Si surfaces
- 表面構造はどこまで分かったのか?
- 21pHT-6 CTR散乱ホログラフィー(21pHT 領域10,領域9,領域1合同シンポジウム:原子分解能をもつX線・電子線ホログラフィー,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 23pWK-5 多波長同時分散光学系を用いたトランケーションロッドの測定III(23pWK X線・粒子線(X線),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))
- 28aYK-9 多波長同時分散光学系を用いたトランケーションロッドの測定II(X線・粒子線(X線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 28pRE-9 多波長同時分散X線光学系を用いた結晶トランケーションロッドの測定(28pRE 領域10,領域5合同 X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
- 26aWG-13 X線CTR散乱法によるPr_Ba_Cu_3O_/SrTiO_3界面構造解析(26aWG 高温超伝導2(理論・磁気共鳴・中性子),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 24aPS-66 表面X線回折法によるPb/Si(111)表面の再構成構造とその相転移(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24aPS-65 Structures formed by Pb deposition onto high-index Si surfaces
- 29pPSB-60 Sn/Ge(111)及びSn/Si(111)低温相のLEEDによる検証(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- ラウエ写真を撮ってみよう
- 3. 微少量・高精度・極限に迫る 表面構造をX線回折で調べる
- 表面を探る : 1. ビーム・表面相互作用: 放射光: 新しい展開 ( 表面)
- B. K. Tanner and D. K. Bowen編: Characterization of Crystal Growth Defects by X-Ray Methods; Proceedings of the NATO Advanced Study Institute, Durham, 1979, Plenum Press, New York and London, 1980, xxvi+589ページ, 26×17.5cm, 21,840円(NATO Advanced Study Instit
- 表面X線回折の最近の動向と位相問題
- X線回折によるSi(111)-√×√-Ag表面構造解析と相転移研究
- 25pTN-2 中性子微分位相コントラストイメージング法の開発(25pTN X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 25pTG-11 Pb/Si(111)表面の1×1↔√7×√3相転移(25pTG 表面界面構造(半導体・無機化合物),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28pTH-1 Si(111)上のBi(001)超薄膜の界面構造解析(28pTH 表面界面構造(金属),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pPSA-38 ペンタセン超薄膜のX線CTR散乱法による構造解析(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aJA-8 多波長同時分散型CTR散乱法の時分割測定への応用(23aJA X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 23aJA-7 ラウエケースのX線CTR散乱(23aJA X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 21aHA-7 X線CTR散乱法によるペンタセン超薄膜の界面構造(21aHA 表面界面構造(有機化合物),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 多波長同時分散型光学系を用いた結晶トランケーションロッド散乱プロファイルの迅速測定法の開発
- 表面X線回折による研究 : さらなる発展と広がりを