矢代 航 | 東大新領域
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概要
関連著者
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矢代 航
東大新領域
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矢代 航
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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高橋 敏男
東大物性研
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依田 芳卓
Jasri
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隅谷 和嗣
東大物性研
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高橋 敏男
東京大学物性研究所
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三木 一司
物材機構
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田尻 寛男
JASRI
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三木 一司
電総研
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田尻 寛男
東大物性研
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田尻 寛男
高輝度光科学研究センター
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百生 敦
東大新領域
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
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三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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百生 敦
東大院新領域
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百生 敦
東大新領域創成
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依田 芳卓
JASRI, SPring-8
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張 小威
高エネ研物構研
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高橋 健介
武蔵工大工
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矢代 航
東大物性研
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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中谷 信一郎
東大物性研
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河田 洋
Kek物構研
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秋本 晃一
名大院工
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秋本 晃一
名工大
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秋本 晃一
名大工
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榎本 貴志
名大工
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榎本 貴志
豊田工業高専
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杉山 弘
Kek Pf
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杉山 弘
高エ研
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村田 好正
東大生研
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河田 洋
高エ研
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一宮 彪彦
名大工
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高橋 正光
原研関西研
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依田 芳卓
高輝度光科学研究センター
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張 小威
高エ研
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服部 健雄
武蔵工大工
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矢代 航
物材機構ナノマテ
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三木 一司
物材機構ナノマテ
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隅谷 和嗣
東京大学物性研究所
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高橋 健介
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
武蔵工業大学工学部
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矢代 航
電通大
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服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
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一宮 彪彦
名古屋大学工学部
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Kundu Manisha
電通大
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張 小威
高エ研PF
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堀井 新司
名大工
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矢代 航
東大院新領域
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桑原 宏萌
東大院新領域
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服部 健雄
武蔵工業大学
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依田 芳卓
高輝度光科学研究
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日野 正裕
京大炉
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北口 雅暁
京大炉
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森田 晋也
理研
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關 義親
京大理
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広田 克也
理研
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大竹 淑恵
理研
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岩下 芳久
京大化研
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市川 雅浩
京大化研
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大竹 淑惠
理研
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鈴木 芳生
JASRI/SPring-8
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服部 正
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
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服部 正
兵庫県大
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野田 大二
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
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鈴木 芳生
高輝度光科学研究センター SPring-8
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竹内 晃久
高輝度光科学研究センター SPring-8
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吉澤 英樹
東大
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関 義親
京大理
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近浦 吉則
九工大
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竹内 晃久
JASRI SPring-8・利用研究促進部門
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吉沢 英樹
東大物性研
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河田 洋
高工研
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高橋 正光
原研関西研(SPring-8)
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安達 智宏
理研
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日野 正裕
京大原子炉
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高橋 正光
原研SPring-8
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村田 好正
電通大
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村田 好正
電通大物理
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森田 晋也
理化学研究所
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安藤 正海
高エネルギー加速器研究機構
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矢代 航
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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三木 一司
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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矢代 航
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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三木 一司
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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矢代 航
産総研
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三木 一司
産総研
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竹内 晃久
(財)高輝度光科学研究センター
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広田 克也
(財)高輝度光科学研究センター
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山形 豊
理研
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山形 豊
理化学研究所
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北口 雅暁
京大原子炉
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近浦 吉則
九工大工
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服部 正
兵庫県立大学
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草野 修治
東大物性研
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張 小威
物構研PF
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安藤 正海
物構研PF
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伊藤 幸仙
東大物性研
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平野 馨一
物構研PF
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安達 智宏
第一機電
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鈴木 芳生
(財)高輝度光科学研究センター
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鈴木 芳生
(株)日立製作所中央研究所
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鈴木 芳生
Jasri
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鈴木 芳生
Spring-8 財団法人高輝度光科学研究センター
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梶原 堅太郎
九工大工
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清水 圭介
東大物性研
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梶原 堅太郎
Jasri Spring-8
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草野 修治
物材機構
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森田 晋也
(独)理化学研究所
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武田 佳彦
東大新領域
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WAN Keshu
東大新領域
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山形 豊
理化学研究所vcad加工応用チーム
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永田 一夫
電通大レーザー
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近浦 吉則
九州工業大学工学部物質工学科
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竹内 晃久
Jasri/spring-8
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Morita Shinya
Ohmori Materials Fabrication Laboratory The Institute Of Physical And Chemical Research
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服部 正
兵庫県大 高度産業科技研
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Kundu Manisha
電通大物理
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杉山 弘
高工研
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張 小威
高工研
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佐藤 昌史
高工研
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杉山 弘
高工研PF
-
張 小威
高工研PF
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朱 正明
理化学研究所
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野田 大二
兵庫大
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Ito S.
名大工
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Yashiro W.
東大物性研
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Nakatani S.
東大物性研
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矢代 航
東大工
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朱 正明
理研
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山崎 岳
東大院新領域
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朱 正明
理化学研究所vcad加工応用チーム
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高橋 敏男
東大 物性研
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安藤 正海
東京理科大学・総合研究機構 基礎工学研究科
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野田 大二
兵庫県立大学
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ハラス セバスチャン
東大院新領域
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山[ザキ] 岳
東大院新領域
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河端 克幸
東大院新領域
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關 義親
理研
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Lee S.
KAERI
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Olbinado M.
東大新領域創成
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山 岳
東大院新領域
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竹内 晃久
Jasri
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鈴木 芳生
株式会社日立製作所情報・通信システム社経営戦略室
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鈴木 芳夫
高輝度光科学研究センター
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岩下 芳久
京都大学科学研究所
著作論文
- 13aTJ-9 SiO_2/Si 界面下に誘起されたメゾスコピックスケール歪みの解明 : 位相敏感 X 線回折法による(X 線・粒子線 : X 線, 領域 10)
- 14pXG-10 SiO_2/Si 界面下に誘起された歪み場中の静的構造揺らぎ(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- SiO_2/Si界面下に誘起された格子歪み : 位相敏感X線回折法による(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 位相敏感X線回折法によるSiO_2/Si界面以下の微小歪みの測定(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 19aTH-5 多波回折を利用したSiO_2/Si界面付近の微小歪みの測定
- 23aYH-3 ブラッグ反射励起条件下のCTR散乱とその応用
- 23aYH-2 微小角入射条件下におけるX線回折理論の研究
- 20aHS-11 X線結像顕微鏡におけるTalbot効果の定式化とその応用(20aHS X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- X線透過格子を用いた位相イメージング装置開発
- 30aXC-5 金属単結晶上の酸化物単結晶薄膜の背面ラウエパターンの観測の試み
- 26pYA-6 6軸X線回折計による表面・界面構造の評価
- 27aXE-3 表面X線回折法によるAg/Si(111)界面の√構造とIETモデル
- 22pT-5 表面X線回折法によるAg/Si界面の構造
- 25a-K-11 多波回折を利用した表面構造解析手法の開発
- 7a-X-4 二次元Bravais格子からのX線回折
- 23pWK-11 X線Talbot干渉計におけるVisibilityコントラストの異方性の起源(23pWK X線・粒子線(X線),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))
- 25pTN-2 中性子微分位相コントラストイメージング法の開発(25pTN X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 26aTN-8 X線Talbot干渉計による波面解析を利用した小角散乱トモグラフィ(26aTN X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))