榎本 貴志 | 豊田工業高専
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概要
関連著者
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榎本 貴志
豊田工業高専
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秋本 晃一
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名大工
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秋本 晃一
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榎本 貴志
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高エ研
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JASRI
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東大物性研
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高輝度光科学研究センター
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中谷 信一郎
東大物性研
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一宮 彪彦
名古屋大学大学院工学研究科
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板垣 和夫
三菱化学(株)筑波工場
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東大新領域
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物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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吉田 泰則
名古屋大学工学研究科
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菊地 敏
三菱化学(株)筑波工場
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浪田 秀郎
CACs(株)筑波分析センター
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堀井 新司
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三菱化学(株)筑波工場
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高エ研 PF
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金沢大理
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平野 馨一
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小山 暁
豊田工業高等専門学校
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豊田工業高等専門学校
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豊田工業高等専門学校
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電通大物理
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清水 圭介
東大物性研
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電通大
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杉山 弘
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佐藤 昌史
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塚原 靖典
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榎本 貴志
国立豊田工業高等専門学校
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インド国立物理学研究所
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榎本 貴志
名古屋大学大学院工学研究科量子工学専攻
著作論文
- 高専の物理・応用物理実験に対する学生の関心度調査
- 26pYA-6 6軸X線回折計による表面・界面構造の評価
- 逆スパッタ表面処理による絶縁膜-半導体界面近傍の格子歪(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- 逆スパッタ表面処理による絶縁膜-半導体界面近傍の格子歪(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
- 逆スパッタ表面処理による絶縁膜-半導体界面近傍の格子歪(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- 27aXE-3 表面X線回折法によるAg/Si(111)界面の√構造とIETモデル
- 22pT-5 表面X線回折法によるAg/Si界面の構造
- 17pWD-8 表面X線回折法によるSi(111)-√×√-Ag上のAg薄膜の結晶配向性
- 26pYA-5 MOS構造界面にもたらされる格子歪
- X線によるSiおよびAg/Si界面の格子歪測定
- イオン照射によりSi基板に導入された格子歪みの深さ方向分布の解析
- 極端に非対称なX線回折法を用いた半導体表面の格子緩和の研究
- 27aY-11 X線回折法を用いたAl/Si界面の歪みの研究
- 7a-X-5 極微小角入射X線回折法を用いたSiおよびAg/Si界面の格子歪測定