イオン照射によりSi基板に導入された格子歪みの深さ方向分布の解析
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概要
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- 日本放射光学会の論文
- 2006-05-31
著者
-
秋本 晃一
名大院工
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秋本 晃一
名工大
-
秋本 晃一
名古屋大学・院工・量子工学
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榎本 貴志
豊田工業高専
-
榎本 貴志
国立豊田工業高等専門学校
-
SATYAM Parlapalli
インド国立物理学研究所
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