超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面--高品質グラフェン作製への応用 (第29回表面科学学術講演会特集号(3))
スポンサーリンク
概要
著者
-
岡本 武志
阪大院工
-
服部 梓
阪大院工
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
-
遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科
-
服部 梓
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
-
岡本 武志
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
定國 峻
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
村田 順二
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
関連論文
- 22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pPSA-27 4H-SiC(0001)表面上のグラフェン形成過程の組成・構造解析(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pPSB-20 酸化亜鉛における極性面と発光(22pPSB 領域5ポスターセッション(微粒子・ナノ結晶等),領域5(光物性))
- 大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性 (特集 最近の興味深いビーム加工技術と将来動向)
- X線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発 : —形状修正加工の高分解能化とX線集光ミラーへの適応—
- Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面--高品質グラフェン作製への応用 (第29回表面科学学術講演会特集号(3))
- 硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発
- Unraveling Genuine First Order Bulk Valence Transition and Kondo Resonance Behaviors in YbInCu_4 by High Energy Photoelectron Spectroscopy
- 超純粋超高速せん断流によるシリコンウエハ表面の洗浄:汚染微粒子の除去特性
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発
- コヒーレント照射でのX線全反射ミラー
- 触媒基準エッチング法(CAtalyst Referred Ething: CARE)の開発--SiC, GaN基板加工への応用 (特集 グリーンエネルギー時代を支える先進加工技術とその課題)
- X線自由電子レーザ集光ミラーの開発
- 触媒基準エッチング法
- 高精度非球面ミラーの加工技術
- 高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現
- EEM (Elastic Emission Machining) によるナノ精度加工
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 : Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果
- 21pXJ-6 X線回折によるSi(111)表面上のFeシリサイド薄膜構造解析(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 15aPS-39 立体原子顕微鏡測定による磁性ナノ薄膜 Fe/Cu(001) の構造の定量的評価(領域 9)
- 20aPS-65 Cu(001) 上の Fe 薄膜の立体原子顕微鏡測定による構造解析とその磁気特性
- 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価
- EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける微粒子表面の形態が加工表面に及ぼす影響
- EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける加工液がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響
- EEM(Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報) : 加工表面の原子像観察と構造評価
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報) : 半導体表面の超平坦化のための超清浄EEMシステムの開発
- 硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価
- Intermediate-Valence Behavior of YbCu_Al_x around Quantum Critical Point Measured by Resonant Inelastic X-ray Scattering at Yb L_3 Absorption Edge(Condensed matter: electronic structure and electrical, magnetic, and optical properties)
- 26pPSB-21 GaN(0001)基板表面清浄化手法の開発2(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 29pPSB-47 GaN(0001)基板表面清浄化手法の開発(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pPSB-15 NaフラックスLPE法で作製した高品質GaN(0001)の表面構造(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si(111)表面上に成長した鉄シリサイドの構造と磁性
- 22pPSB-73 SPE成長させたSi(111)-Feの磁気構造相図(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 20aPS-45 Si(111)表面上にSPE成長した多結晶Feシリサイド相の構造と磁気特性(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 18aTB-1 Si(111)1×1,2×2-Feの界面強磁性(領域3,領域9合同 2.表面・界面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発
- プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価
- プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価
- 数値制御プラズマCVMおよび数値制御EEMによる硬X線集光用超精密非球面ミラーの加工
- プラズマCVMおよびEEMによるX線光学素子の加工と放射光による評価
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第2報) -ノズル噴射流れを利用した加工ヘッドの開発-
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第1報) -超純水静圧軸受けを用いた数値制御ステージシステムの開発-
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報) : Si基板表面のCu汚染の洗浄効果
- 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究 : 最適加工条件の探索
- 超清浄EEM (Elastic Emission Machining)加工システムの開発:加工表面の原子レベルでの評価
- 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第2報) : 原子像による加工表面の評価
- ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測
- Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Maching)加工機構の解明:加工物表面構造に対する反応性の依存性
- 原子レベルで平坦な表面の創成技術
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用
- 円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径(機械要素,潤滑,設計,生産加工,生産システムなど)
- 円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径 (特集 環境対応) -- (環境対応商品/技術)
- 傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-
- 傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machining)加工特性の加工物材料(Si, Ge)依存性の解析
- 数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発 : nmオーダでの加工精度の評価
- SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第1報) : nmオーダの形状修正加工システムの開発
- 超洗浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第1報) : シリコン表面の平坦化及び評価
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 18aTB-1 Si(111) 1×1, 2×2-Feの界面強磁性(18aTB 領域3,領域9合同 2.表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aPS-73 4H-SiC(0001)上のグラフェン形成過程の追跡と層分解構造解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machinig)加工機構の解明 : Si(001)表面とSiO_2微粒子の結合過程および分離過程の解明
- 光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価
- レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測
- 円筒ころ軸受における対数クラウニングの公差設計
- 次世代の超精密加工 : 原子制御製造プロセスの創出に向けて(超精密加工専門委員会,専門委員会・分科会研究レビュー)
- 円筒ころ軸受における部分円弧クラウニングと対数クラウニングの実験的比較(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 超精密加工専門委員会活動報告(5.3 専門委員会・分科会の活動,5.精密工学の輪,創立75周年記念)
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) : Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-
- X線自由電子レーザー用大型集光ミラーの開発
- 未踏の光源、X線自由電子レーザー開発に挑む！
- 23aWS-10 GaN(0001)表面の清浄化手法(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
- EEM (Elastic Emission Machining)用微粒子作製装置の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第3報) : 形状修正加工システムの高精度化
- 微粒子定機によるナノメータオーダのSiウエハ表面形状の測定
- 微粒子測定機を用いたSiウェハ表面におけるナノメータオーダのスクラッチ形状の測定
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第6報) -Siウェーハ面の測定と微粒子付着分布による表面評価-
- プラズマCVMによる機能材料の切断加工 : 内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性
- 26aYH-4 SPE成長させたSi(111)表面上のβ-FeSi_2薄膜系の磁性(26aYH 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26aYH-4 SPE成長させたSi(111)表面上のβ-FeSi_2薄膜系の磁性(26aYH 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 25pPSB-52 Si(111)表面上にRDE成長したFeシリサイドの磁気特性(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 30aPS-63 Si(001)表面上へのFeシリサイドの形成とその磁気特性(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22aYE-3 Si(111)表面上のCo島の構造(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aYB-7 Si(111)表面上の強磁性相Feシリサイド(領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aYB-7 Si(111)表面上の強磁性相Feシリサイド(領域3,領域9合同,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pXD-9 Si(111)表面上のFeシリサイドの構造と磁性(領域9, 領域3合同表面・界面磁性,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 24pXD-9 Si(111)表面上のFeシリサイドの構造と磁性(表面・界面磁性,領域9,領域3合同)
- 15aPS-62 Co/Si(111) 表面の構造と磁性(領域 9)
- 23pPSA-18 強相関酸化物(Fe,Zn)_3O_4の大気暴露表面(23pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pPSB-18 表面清浄化前後のGaN(0001)基板の超高真空その場発光測定(21pPSB 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 18aPSB-7 極性面を有するZnO単結晶のXPSスペクトルと発光特性との関係(18aPSB 領域5 ポスターセッション(励起子・光誘起相転移・低次元ほか),領域5(光物性))