鈴木 基史 | 京都大学大学院工

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概要

• 同名の論文著者
• 京都大学大学院工の論文著者

関連著者

• 鈴木 基史

  京都大学大学院工

• 鈴木 基史

  京大院工

• 鈴木 基史

  京大

• 中嶋 薫

  京都大学大学院工

• 木村 健二

  京都大学大学院工

• 鈴木 基史

  産業技術総合研究所

• 奈良 安雄

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 山田 啓作

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 北村 隆行

  京都大学大学院工学研究科

• 奈良 安雄

  (株)富士通研究所 Ulsi研究部門

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部

• 岩井 洋

  東工大フロンティア研

• 澄川 貴志

  京都大学大学院工学研究科

• 岩井 洋

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 澄川 貴志

  京都大学大学院

• 北村 隆行

  京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻

• 北村 隆行

  京都大学

• 趙 明

  京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻

• 植松 真司

  NTT物性科学基礎研究所

• 鳥居 和功

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 神山 聡

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 山田 啓作

  筑波大学数理物質科学研究科

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 鈴木 基史

  京都大学

• 神山 聡

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 植松 真司

  慶応義塾大学大学院理工学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 岩井 洋

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 山田 啓作

  早稲田大学:筑波大学

• 澄川 貴志

  京都大学

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科:JST-CREST

• 大見 俊一郎

  東京工業大学

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• 大見 俊一郎

  東京工業大学総合理工学研究科

• 大見 俊一郎

  東京工業大学・総合理工学研究科

• 中嶋 薫

  京大工

• 木村 健二

  京大工

• 角嶋 邦之

  東工大総理工

• 松下 知義

  京大院工

• 中嶋 薫

  京大院工

• 木村 健二

  京大院工

• 為広 信也

  京大院工

• 松下 知義

  京都大学大学院工

• 為広 信也

  京都大学大学院工

• 高橋 健介

  武蔵工大工

• 高橋 健介

  武蔵工業大学工学部

• 服部 健雄

  武蔵工業大学工学部

• 木村 健二

  京大 大学院工学研究科

• 野平 博司

  武蔵工業大学工学部

• 井手 修平

  京都大学[院]

• 武村 正輝

  京都大学[院]

• 末田 泰介

  京都大学[院]

• 二村 有哉

  京都大学

• 舘 喜一

  東京工大フロンティア創造共同研究センター

• 角嶋 邦之

  東京工大フロンティア創造共同研究センター

• 岩井 洋

  東京工大フロンティア創造共同研究センター

• 大田 行俊

  京都大学大学院工学研究科

• 井手 修平

  京都大学

• 末田 泰介

  京都大学

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 武村 正輝

  京都大学

• 中嶋 薫

  京大 大学院工学研究科

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

• 白石 貴義

  武蔵工業大学工学部

• 岩井 洋

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 岩井 洋

  東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター

• 鈴木 基史

  京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻

• 柏木 郁未

  東京工業大学総合理工学研究科

• 大島 千鶴

  東京工業大学フロンティア研究所

• 城森 慎司

  京都大学大学院工学研究科

• 大見 俊一郎

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• Nohira Hiroshi

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• 羽野 仁彦

  京都大学大学院工学研究科

• 羽野 仁彦

  京大工

• 岩井 洋

  東京工業大学

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 舘 喜一

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学

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著作論文

• 28aTA-1 低速C_のKCl(001)表面における鏡面反射(28aTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 505 微小曲げ試験片を用いたTa_2O_5薄膜の変形特性評価(ナノ材料の創製と応用,ナノ材料の創成と応用,オーガナイスドセッション8)
• 504 ナノらせん要素配列薄膜端部における破壊特性評価(ナノ材料の特性評価,ナノ材料の創成と応用,オーガナイスドセッション8)
• シリコンとhigh-kゲート絶縁膜の界面の高分解能RBS/ERD分析(シリコン関連材料の作製と評価)
• 酸素雰囲気アニール中のHfO_2/SiO_2/Si(001)界面反応の高分解能RBS観察(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 高分解能ラザフォード後方散乱分光法(高分解能RBS)を用いた界面近傍の格子ひずみ測定
• 高分解能ラザフォード後法散乱法を用いた極浅ドーパントの深さプロファイル分析
• 高温斜め蒸着による金属ナノウィスカの気相成長
• 極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
• 高分解能RBS/channelingを用いたSiO_2/Si(001)の界面分析(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)

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