羽野 仁彦 | 京大工

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著作論文

• 高分解能RBS/channelingを用いたSiO_2/Si(001)の界面分析(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
• 31aWD-1 高分解能 RBS による Si(001)(2×1) 清浄表面近傍の格子ひずみ測定
• 27pYF-3 Ge/Si(001)酸化初期過程の高分解能RBSによる観察(27pYF 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長分野))

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