鈴木 基史 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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鈴木 基史
産業技術総合研究所
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鈴木 基史
京大
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鈴木 基史
京大院工
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中嶋 薫
京大工
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木村 健二
京大工
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中嶋 薫
京大院工
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木村 健二
京大院工
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木村 健二
京大 大学院工学研究科
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中嶋 薫
京大 大学院工学研究科
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鈴木 基史
産業技術総合研
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青柳 昌宏
独立行政法人 産業技術総合研究所
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青柳 昌宏
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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前澤 正明
電子技術総合研究所
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鈴木 基史
独立行政法人産業技術総合研究所
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仲川 博
独立行政法人産業技術総合研究所
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青柳 昌宏
独立行政法人産業技術総合研究所
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青柳 昌弘
(独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体
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青柳 昌宏
東京理科大学大学院:独立行政法人産業技術総合研究所
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菊地 克弥
独立行政法人産業技術総合研究所
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為広 信也
京大院工
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中嶋 薫
京都大学大学院工
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鈴木 基史
京都大学大学院工
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木村 健二
京都大学大学院工
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前澤 正明
産業技術総合研究所
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平山 文紀
産業技術総合研究所
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松本 祐教
株式会社トプスシステムズ
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萩本 有哉
株式会社トプスシステムズ
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内田 裕之
株式会社トプスシステムズ
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居村 史人
独立行政法人産業技術総合研究所
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内田 裕之
気象衛星セ
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萩本 有哉
(株)トプスシステムズ
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大川 猛
(独)産業技術総合研究所情報技術研究部門
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富田 直秀
京大
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富田 直秀
京都大学国際融合創造センター創造部門(生体・医療工学)
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富田 直秀
日本獣医生命科学大学 獣医外科学教室
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松下 知義
京大院工
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高木 慎平
京大院工
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寺村 聡
京都大学 工学研究科
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大川 猛
株式会社トプスシステムズ
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池野 理門
株式会社トプスシステムズ
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宮崎 崇史
株式会社トプスシステムズ
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池野 理門
東京大学大学院工学系研究科:(現)テキサスインスツルメンツ筑波研究開発センター
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Ikeno Rimon
Dsp Development Japan Worldwide Development Application Specific Products Tsukuba Technology Center
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大川 猛
東北大学大学院工学研究科
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大川 猛
National Institute For Advanced Industrial Science And Technology (aist):information Technology Rese
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Ohkawa Takeshi
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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大川 猛
National Institute For Advanced Industrial Science And Technology (aist) Information Technology Rese
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大川 猛
(株)トプスシステムズ
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大川 猛
宇都宮大学大学院工学研究科情報システム科学専攻
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安達 泰治
京大
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鈴木 基史
電子技術総合研究所情報アーキテクチャ部分散システム研究室
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闕 上凱
京大
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寺村 聡
京大
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東海林 彰
産業技術総合研究所
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落合 雅幸
産業技術総合研究所
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東海林 彰
電子技術総合研究所
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鈴木 俊朗
京大院工
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脇 祐介
京大院工
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阪田 正和
京大院工
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千葉 元気
京大院工
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鈴木 基史
京大工
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前北 渉
京都大学 工学研究科
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前北 渉
京大
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東海林 彰
電子技術総合研究所電子デバイス部
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マルコチャシン
株式会社トプスシステムズ
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奈良 安雄
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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山田 啓作
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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奈良 安雄
(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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奈良 安雄
(株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部
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鳴海 一雅
原子力機構先端基礎セ
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鳴海 一雅
日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター
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鳴海 一雅
原子力機構
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斎藤 勇一
原子力機構高崎
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闕 上凱
京大・院
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木村 寛恵
産業技術総合研究所
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趙 明
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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植松 真司
NTT物性科学基礎研究所
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鳥居 和功
(株)半導体先端テクノロジーズ
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神山 聡
(株)半導体先端テクノロジーズ
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中本 篤
京大工
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鳥居 和功
日立製作所中央研究所
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山田 啓作
筑波大学数理物質科学研究科
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奈良 安雄
(株)半導体先端テクノロジーズ
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神山 聡
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete)
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植松 真司
慶応義塾大学大学院理工学研究科
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山田 啓作
筑波大学大学院数理物質科学研究科
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森田 陽亮
京大工
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齋藤 勇一
原子力機構高崎研
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鳴海 一雅
原子力機構高崎
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山田 啓作
早稲田大学:筑波大学
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山田 啓作
筑波大学大学院数理物質科学研究科:JST-CREST
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横島 時彦
独立行政法人産業技術総合研究所
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岡田 義邦
独立行政法人産業技術総合研究所
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三浦 政敏
STKテクノロジー株式会社
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高橋 剛
STKテクノロジー株式会社
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北山 公也
STKテクノロジー株式会社
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江藤 篤志
STKテクノロジー株式会社
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姫野 智浩
STKテクノロジー株式会社
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丸井 彰
STKテクノロジー株式会社
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富田 直秀
京都大学 国際融合創造センター工学研究科医学研究科
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富田 直秀
京都大学 大学院工学研究科
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横島 時彦
独立行政法人 産業技術総合研究所
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角嶋 邦之
東工大総理工
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岩井 洋
東工大フロンティア研
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爲廣 信也
京大院工
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松下 知義
京都大学大学院工
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為広 信也
京都大学大学院工
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原田 恭治
京都大学国際融合創造センター
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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小森 和弘
産業技術総合研究所
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渡辺 直也
北海道大学 大学院医学研究科法医学
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安達 泰治
京都大学 大学院工学研究科 機械理工学専攻
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舘 喜一
東京工大フロンティア創造共同研究センター
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角嶋 邦之
東京工大フロンティア創造共同研究センター
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岩井 洋
東京工大フロンティア創造共同研究センター
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山崎 成晴
京大院工
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辻岡 照泰
京大工
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田中 晋介
京大工
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中本 篤
京大院工
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大田 行俊
京都大学大学院工学研究科
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原田 恭治
京都大学 国際融合創造センター
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闕 上凱
京都大学 医学研究科
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鈴木 基史
京都大学 工学研究科
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浅田 映美
京大
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岸本 一昭
京大
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小森 和弘
(独)産業技術総合研究所 光技術研究部門 光電子制御デバイスグループ:科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業 Crestタイプ
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天野 建
産業技術総合研究所光技術研究部門
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引地 信之
SRA先端技術研究所
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア研究機構
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渡辺 直也
北海道大学大学院医学研究科
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前川 真吾
京大院工
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岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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小森 和弘
産業技術総合研 光技術研究部門
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チャシン マルコ
株式会社トプスシステムズ
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渡辺 直也
九州大学大学院システム情報科学研究院:福岡県産業・科学技術振興財団
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大島 伸一
京大院工
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大野 敦史
京大院工
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宮下 基希
京大院工
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森本 智之
(株)トプスシステムズ
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引地 信之
(株)トプスシステムズ
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舘 喜一
東京工業大学フロンティア研究機構
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森本 智之
株式会社トプスシステムズ
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引地 信之
株式会社トプスシステムズ
-
渡辺 直也
独立行政法人産業技術総合研究所
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青柳 昌宏
産業技術総合研究所
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浮田 茂也
産業技術総合研究所
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佐々木 史雄
産業技術総合研究所
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天野 建
産業技術総合研究所
著作論文
- 微細パッドピッチのLSIチップに対応するバーンインテスト用チップキャリヤ(次世代電子機器における先端実装技術と環境調和型実装技術論文)
- 27aXP-5 KCl(001)表面に斜入射した2MeV He^+イオンによるコンボイ電子の放出(放射線物理)(領域1)
- 28pSD-4 KCl(001)表面におけるC_^+イオンの斜入射散乱(28pSD 領域1シンポジウム:エキゾチックな粒子ビームと固体・表面との相互作用,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 23pRB-4 KCl(001)表面で鏡面反射した低速C_^+イオンのエネルギー損失(放射線物理(衝突に伴うエネルギー付与),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26aWD-2 低速C_^+イオンのKCl(001)表面における中性化(26aWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 28aTA-1 低速C_のKCl(001)表面における鏡面反射(28aTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- C-8-4 電圧増倍回路の高臨界電流密度化設計(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
- C-8-2 単一磁束量子回路セルライブラリの高臨界電流密度化(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
- SC-8-3 単一磁束量子回路を用いた高精度デジタルアナログ変換器(SC-8.超伝導SFQ回路技術の最近の進展)
- C-8-2 磁束量子パルス分配回路の設計と評価(C-8.超伝導エレクトロニクス)
- C-8-5 単一磁束量子回路の動作への外部磁場の影響
- C-8-11 RSFQ AD変換器用 GHzインタフェース
- C-8-1 RSFQシフトダンプ型デマルチプレクサ
- RSFQシフト-ダンプ型デマルチプレクサの設計
- 27pRA-13 鏡面反射イオンによりKCl(001)表面から放出される2次電子数と2次イオン収率の相関(27pRA 放射線物理(クラスター・二次粒子放出),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 27pRA-12 斜入射高速イオンによるイオン液体表面からの2次イオン放出(27pRA 放射線物理(クラスター・二次粒子放出),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 23aRB-1 斜入射高速イオンのイオン液体表面での散乱(放射線物理(散乱素過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 21pRE-3 KCl(001)で鏡面反射したHeH^+分子イオンの解離片に対する表面トラックポテンシャルの影響(放射線物理(エネルギー付与過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 21aRF-6 KCl(001)表面における低速グリシンイオンの散乱(放射線・原子分子融合(イオン・表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 18aXK-2 KC1(001)結晶表面で鏡面反射したHeH^+分子イオンの解離過程II(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 18aXK-5 斜入射高速イオンによるKC1(00l)表面からの2次イオン放出II(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 18aXK-1 ECRイオン源を用いたグリシンイオンの生成(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- シリコンとhigh-kゲート絶縁膜の界面の高分解能RBS/ERD分析(シリコン関連材料の作製と評価)
- 26aWD-3 KCl(001)結晶表面で鏡面反射した1〜2MeV HeH^+分子イオンの解離過程(26aWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 酸素雰囲気アニール中のHfO_2/SiO_2/Si(001)界面反応の高分解能RBS観察(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 高分解能ラザフォード後方散乱分光法(高分解能RBS)を用いた界面近傍の格子ひずみ測定
- 25aYJ-7 斜入射高速イオンによるKC1(001)表面からの2次イオン放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 13aTG-3 低速 Ar^+ イオンの KC1(001) 表面における中性化 II(放射線物理, 領域 1)
- 高分解能ラザフォード後法散乱法を用いた極浅ドーパントの深さプロファイル分析
- ナノスケールで表面形状を制御した材料上における細胞培養
- 1252 ナノスケールで制御した材料上における細胞の接着挙動(J03-1 細胞の構造と流れのメカニクス(1),J03 細胞の構造と流れのメカニクス)
- 816 表面形状をナノスケールで制御した材料上における細胞の接着挙動観察(GS-2 生体材料,研究発表講演)
- 240 表面形状をナノスケールで制御した材料上における細胞の接着挙動(OS1-13 : 生体マイクロ・ナノ新技術(2),マイクロ・ナノバイオメカニクス)
- 三次元LSI積層集積技術に求められる微細構造に対応した局所電気特性評価技術(先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文)
- 省エネ組込みヘテロジニアス・マルチチップ積層COOL Systemの開発
- 24aRD-9 イオン性結晶の表面軸チャネリングイオンに対する相互作用ポテンシャル(24aRD 放射線物理・原子分子放射線融合(表面・イオン照射),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 24aRD-7 KCI(001)表面で鏡面散乱したC_イオンのC_2放出(24aRD 放射線物理・原子分子放射線融合(表面・イオン照射),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- ヘテロジニアス・マルチコア/マルチチップによる低消費電力画像処理のための機能分散処理ソフトウェア
- ヘテロジニアス・マルチコア/マルチチップによる低消費電力画像処理のための機能分散処理ソフトウェア
- 25pRA-12 30keVC_イオンのSi中の飛程に対するクラスター効果(25pRA 放射線物理(固体との相互作用・クラスター),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 3次元積層LSI開発のためのスケーラブルなプロトタイピング・システム(アーキテクチャ設計2,システムオンシリコンを支える設計技術)
- 24aGD-8 高分解能RBSによるイオン液体2元混合物の表面組成分析(24aGD 液体金属,領域6(金属,超低温,超伝導・密度波))
- 21pEB-10 30keVC_イオンのSi中での振る舞いに対するクラスター効果(21pEB 放射線物理(クラスター・微粒子),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 省エネ組み込みヘテロジニアス・マルチチップ・プロセッサシステムCOOL ChipのLSI試作(電力/電源解析,システムオンシリコンを支える設計技術)
- ポリマー光回路を用いた面出射光源の研究(半導体レーザ関連技術,及び一般)