舘 喜一 | 東京工業大学フロンティア研究機構

スポンサーリンク

概要

• 舘 喜一の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東京工業大学フロンティア研究機構の論文著者

関連著者

• 岩井 洋

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 舘 喜一

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 角嶋 邦之

  東工大総理工

• 岩井 洋

  東工大フロンティア研

• 岩井 洋

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 岩井 洋

  東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター

• 舘 喜一

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 岩井 洋

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 岩井 洋

  東京工業大学

• 鈴木 基史

  京大院工

• 鈴木 基史

  産業技術総合研究所

• 鈴木 基史

  京大

• 奈良 安雄

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 山田 啓作

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 中嶋 薫

  京大工

• 木村 健二

  京大工

• 奈良 安雄

  (株)富士通研究所 Ulsi研究部門

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部

• 杉井 信之

  (株)日立製作所中央研究所

• 杉井 信之

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物理電子システム創造専攻

• 中嶋 薫

  京大院工

• 木村 健二

  京大院工

• 中嶋 薫

  京都大学大学院工

• 鈴木 基史

  京都大学大学院工

• 木村 健二

  京都大学大学院工

• 木村 健二

  京大 大学院工学研究科

• 筒井 一生

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 趙 明

  京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻

• 植松 真司

  NTT物性科学基礎研究所

• 鳥居 和功

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 神山 聡

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 舘 喜一

  東京工大フロンティア創造共同研究センター

• 角嶋 邦之

  東京工大フロンティア創造共同研究センター

• 岩井 洋

  東京工大フロンティア創造共同研究センター

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 中嶋 薫

  京大 大学院工学研究科

• 佐藤 創志

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 角嶋 邦之

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 山田 啓作

  筑波大学数理物質科学研究科

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• パールハット アヘメト

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• アヘメト パールハット

  東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• アヘメト パールハット

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 宋 在烈

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 神山 聡

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 植松 真司

  慶応義塾大学大学院理工学研究科

• 杉井 信之

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• Faynot Olivier

  Cea-leti

• 佐藤 創志

  東京工業大学フロンティア創造共同研究センター

• 角嶋 邦之

  東京工業大学

• Hartmann Jean-michel

  Cea-leti Minatec

• Casse Mikael

  CEA-LETI, MINATEC

• Barraud Sylvain

  CEA-LETI, MINATEC

• Dupre Cecilia

  CEA-LETI, MINATEC

• Hubert Alexandre

  CEA-LETI, MINATEC

• Vulliet Nathalie

  STMicroelectronics

• Faivre Marie-Emmanuelle

  CEA-LETI, MINATEC

• Vizioz Christian

  CEA-LETI, MINATEC

• Carabasse Catherine

  CEA-LETI, MINATEC

• Delaye Vincent

  CEA-LETI, MINATEC

• Cristoloveanu Sorin

  グルノーブル工科大学

• Ernst Thomas

  CEA-LETI, MINATEC

• 山田 啓作

  早稲田大学:筑波大学

• Faynot Olivier

  Cea-leti Minatec

• 宋 在烈

  東京工業大学フロンティア研究センター

• Dupre Cecilia

  Cea-leti Minatec

• Ernst Thomas

  Cea-leti Minatec

• Barraud Sylvain

  Cea-leti Minatec

• Vulliet Nathalie

  Stmicroelectronics:東京工業大学フロンティア研究機構

• Casse Mikael

  Cea-leti Minatec

• Delaye Vincent

  Cea-leti Minatec

• Hubert Alexandre

  Cea-leti Minatec

• Vizioz Christian

  Cea-leti Minatec

• Carabasse Catherine

  Cea-leti Minatec

• Faivre Marie-emmanuelle

  Cea-leti Minatec

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• パルハット アヘメト

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科:JST-CREST

もっと見る 閉じる

著作論文

• シリコンとhigh-kゲート絶縁膜の界面の高分解能RBS/ERD分析(シリコン関連材料の作製と評価)
• ラジカル窒化によるLa_2O_3ゲート絶縁膜への窒素導入効果 : 堆積時窒化によるEOT増加抑制効果(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• 直径10nmナノワイヤCMOSにおけるキャリア輸送に関する研究(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))

スポンサーリンク