アヘメト パールハット | 東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター
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概要
関連著者
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アヘメト パールハット
東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター
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筒井 一生
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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角嶋 邦之
東京工業大学
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岩井 洋
東京工業大学
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パルハット アヘメト
東京工業大学フロンティア研究機構
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
-
岩井 洋
東工大フロンティア研
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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パールハット アヘメト
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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アヘメト パールハット
東京工業大学フロンティア研究機構
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岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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杉井 信之
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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杉井 信之
(株)日立製作所中央研究所
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角嶋 邦之
東工大総理工
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名取 研二
東京工業大学フロンティア研究機構
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西山 彰
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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西山 彰
東京工業大学大学院総合理工学研究
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杉井 信之
東京工業大学大学院総合理工学研究科物理電子システム創造専攻
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西山 彰
東芝 研究開発センター
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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知京 豊裕
物材機構
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知京 豊裕
(独)物質・材料研究機構
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知京 豊裕
金属材料技術研究所
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中島 清美
物質・材料研究機構
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角嶋 邦之
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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岩井 洋
東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター
-
宋 在烈
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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知京 豊裕
(独)物質・材料研究機構 半導体材料センター
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宋 在烈
東京工業大学フロンティア研究センター
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野平 博司
東京都市大
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田村 雄太
東京工業大学フロンティア研究機構
-
吉原 亮
東京工業大学フロンティア研究機構
-
片岡 好則
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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金原 潤
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
宮田 陽平
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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室 隆桂之
JASRI
-
室隆 桂之
SPring-8 JASRI
-
知京 豊裕
物質材料研究機構(NIMS)
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山田 啓作
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
-
室 桂隆之
JASRI SPring-8
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佐藤 創志
東京工業大学フロンティア研究機構
-
アヘメト パルハット
東京工業大学フロンティア研究機構
-
AHMET Parhat
東京工業大学フロンティア研究機構
-
山田 啓作
筑波大学数理物質科学研究科
-
岩井 洋
東京工業大学フロンティア研究機構
-
長谷川 顕
東京工業大学
-
田森 妙
東京工業大学
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Ahmet Parhat
物質材料研究機構
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Kukurznyak Dmitry
物質材料研究機構
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中島 清美
物質材料研究機構
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鯉沼 秀臣
早稲田大学ナノテクセンター
-
鯉沼 秀臣
東京大学新領域創成科学研究科
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舘 喜一
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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鯉沼 秀臣
東京工大 応用セラミックス研
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山田 啓作
筑波大学大学院数理物質科学研究科
-
長谷川 顕
東京工大 応用セラミックス研
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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AHMET P.
東京工業大学フロンティア研究センター
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佐藤 創志
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
-
山田 啓作
早稲田大学:筑波大学
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田森 妙
東京工大 応用セラミックス研
-
ザデ ダリューシュ
東京工業大学フロンティア研究機構
-
細井 隆司
東京工業大学フロンティア研究機構
-
川那子 高暢
東京工業大学フロンティア研究機構
-
舘 喜一
東京工業大学フロンティア研究機構
-
室 隆桂之
SPring-8-JASRI
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野平 博司
東京都市大学工学部
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角嶋 邦之
東京工業大学フロンティア研究機構
-
泉 雄大
高輝度光科学研究セ
-
室 隆桂之
高輝度光科学光科学研究センター
-
木下 豊彦
高輝度光科学光科学研究センター
著作論文
- コンビナトリアル手法によるHfO_2系酸化膜の電気特性評価 : 熱力学観点からの材料選択と界面制御(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- ラジカル窒化によるLa_2O_3ゲート絶縁膜への窒素導入効果 : 堆積時窒化によるEOT増加抑制効果(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- 次世代ゲート絶縁膜の課題とコンビナトリアル手法による材料探索
- 希土類酸化物La_2O_3膜を用いたGe MOSデバイスの特性改善のための極薄界面層の検討
- 高温熱処理とMIPS構造によるLa-silicate/Si界面特性の改善と低EOTの実現(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- コンダクタンス法を用いたHfO_2/In_Ga_Asの界面解析(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 微細3次元デバイスに向けたシリサイドショットキーS/Dの界面制御方法の提案(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 極浅接合における異なる化学結合状態を持つ不純物の検出とその深さ方向プロファイル評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 微細3次元デバイスに向けたシリサイドショットキーS/Dの界面制御方法の提案
- 極浅接合における異なる化学結合状態を持つ不純物の検出とその深さ方向プロファイル評価