野平 博司 | 武蔵工業大学工学部
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概要
関連著者
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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服部 健雄
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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服部 健雄
武蔵工業大学
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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品川 盛治
武蔵工業大学
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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樋口 正顕
株式会社東芝
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
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品川 誠治
武蔵工業大学工学部
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須川 成利
東北大学工学研究科技術社会システム
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樋口 正顕
東北大学工学研究科
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吉田 徹史
武蔵工業大学工学部
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池永 英司
Jasri/spring-8
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小林 啓介
高輝度光科学研究センター
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高橋 健介
武蔵工大工
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高橋 健介
武蔵工業大学工学部
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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高田 恭孝
理化学研究所量子秩序研究チーム
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高田 恭孝
東大新領域:理研:spring8
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高田 恭孝
理化学研究所放射光物性研究室-spring-8
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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辛 埴
理化学研究所・播磨研究所
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荒谷 崇
信越化学工業株式会社
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品川 盛治
武蔵工業大学工学部
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岡本 英介
武蔵工業大学工学部
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東 和文
(株)液晶先端技術開発センター
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白石 貴義
武蔵工業大学工学部
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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小林 啓介
物材機構
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中田 行彦
株式会社液晶先端技術開発センター
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池永 英司
Crest・jst
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セマン ムスタファ
武蔵工業大学工学部
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荒谷 崇
東北大学大学院工学研究科
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樋口 正顕
東北大学大学院工学研究科
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加勢 正隆
富士通株式会社
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堀 充明
富士通
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堀 充明
富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
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加瀬 正隆
富士通
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廣瀬 和之
総合研究大学院大学
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生田 哲也
富士通株式会社lsi事業本部
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塩路 昌利
武蔵工業大学工学部
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中田 行彦
(株)液晶先端技術開発センター
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鈴木 基史
京大院工
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鈴木 基史
京大
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木村 健二
京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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中嶋 薫
京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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大見 俊一郎
東京工業大学
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大見 忠弘
東北大学
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池永 英司
JASRI SPring-8
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大見 俊一郎
東京工業大学総合理工学研究科
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大見 俊一郎
東京工業大学・総合理工学研究科
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中嶋 薫
京大工
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木村 健二
京大工
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岩井 洋
東工大フロンティア研
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中嶋 薫
京大院工
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木村 健二
京大院工
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中嶋 薫
京都大学大学院工
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鈴木 基史
京都大学大学院工
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木村 健二
京都大学大学院工
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木村 健二
京大 大学院工学研究科
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セマン ムスタファ
武蔵工業大学 工学部
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中村 智裕
武蔵工業大学工学部
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小村 政則
東北大学工学研究科
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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牛尾 二郎
株式会社日立製作所
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濱田 龍文
東北大学大学院工学研究科
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服部 武雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Kobayashi Keisuke
JASRI SPring8
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小村 政則
東北大学大学院工学研究科
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廣瀬 和之
総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部
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廣瀬 和之
宇宙科学研
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中嶋 薫
京大 大学院工学研究科
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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加瀬 正隆
富士通株式会社LSI事業本部
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SEMAN Mustafa
武蔵工業大学工学部
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鈴木 伸子
総合研究大学院大学
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山脇 師之
総合研究大学院大学
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岩井 洋
東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター
-
鈴木 治彦
武蔵工業大学工学部
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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柏木 郁未
東京工業大学総合理工学研究科
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大島 千鶴
東京工業大学フロンティア研究所
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城森 慎司
京都大学大学院工学研究科
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服部 健雄
宇宙科学研究所
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長谷川 覚
武蔵工業大学工学部
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小林 大輔
宇宙科学研究本部
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鹿瀬 和之
総合研究大学院大学
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東 和文
液晶先端技術開発センター
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大見 俊一郎
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
鹿瀬 和之
総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部
-
岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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関川 宏昭
武蔵工業大学
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大石 和明
武蔵工業大学
-
廣瀬 和之
宇宙科学研究所
-
岩井 洋
東京工業大学
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池永 英司
高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
-
須川 成利
JASRI SPring8
-
諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
著作論文
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性,AWAD2006)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 極薄シリコン酸窒化膜の種々の結合形態にある窒素原子の深さ方向分布(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- プラズマ窒化によるシリコン酸窒化膜のX線光電子分光(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- X線光電子分光法による極薄シリコン酸化膜の高精度膜厚算出
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性
- 角度分解光電子分光法による深さ方向組成分析の高精度化の試み
- XPSを用いたAu/極薄SiO_2界面のバリアハイトの測定(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- high-k 膜のXPSによる評価
- ラジカル酸化および熱酸化により形成した極薄シリコン酸化膜中の電子の脱出深さ(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- プレオキサイドを介した水素終端Si(111)面の初期酸化過程