high-k 膜のXPSによる評価
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概要
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- 2005-06-03
著者
-
野平 博司
Musashi Institute Of Technology
-
服部 健雄
武蔵工業大学工学部
-
野平 博司
武蔵工業大学工学部
-
服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
-
服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
-
Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
-
Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
-
服部 健雄
武蔵工業大学
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