23pZN-4 極薄Si酸化膜の表面と界面の構造 : 膜成長にともなう構造変化
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2000-03-10
著者
-
野平 博司
Musashi Institute Of Technology
-
服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
-
服部 健雄
武蔵工大・工
-
井上 幸多
武蔵工大・工
-
野平 博司
武蔵工大・工
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