SiO_2/Si界面形成の原子スケ-ル制御

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 1995-11-10

著者

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

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