微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
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概要
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SiO_2薄膜の構造については、かねてより多角的な研究によりSiO_2薄膜中にSi基板の結晶構造を反映した秩序が残留していることが指摘されているが、詳細な構造については明らかになっていない。そこで、我々は10keVの高輝度放射光を光源とした微小角入射X線回折法(GIXD)によりSiO_2薄膜中の結晶様構造の評価を行った。その結果、回折パターンに鋭いピークが現れることを見出した。これは、SiO_2薄膜中に配向した結晶様構造が存在することを示唆している。熱酸化法における回折パターンはクリストバライト結晶のものとほぼ同様の傾向を示している一方で、ラジカル酸化では明らかに熱酸化とは異なる回折プロファイルが得られ、SiO_2薄膜中の結晶構造が主として酸化種の違いに依存していることを明らかにした。
- 2012-10-18
著者
-
寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
廣沢 一郎
Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)
-
山口 拓也
島根医科大学 第三内科
-
広沢 一郎
Nec分析評価センター
-
服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
-
諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
永田 晃基
明治大学理工学部
-
山口 拓也
明治大学理工学部
-
小金澤 智之
財団法人高輝度光科学センター
-
小椋 厚志
明治大学理工学部
-
山口 拓也
島根大学医学部附属病院
-
廣澤 一郎
財団法人高輝度光科学センター
-
寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
-
諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
-
小椋 厚志
明治大学理工学研究科
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