諏訪 智之 | 東北大学未来科学共同センター
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概要
関連著者
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諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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大見 忠弘
東北大学
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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熊谷 勇喜
東北大学大学院工学研究科
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
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木下 豊彦
高輝度光科学研究センター
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木下 豊彦
高輝度光科学研究セ
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室 隆桂之
JASRI
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室隆 桂之
SPring-8 JASRI
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室 桂隆之
JASRI SPring-8
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黒田 理人
東北大学工学研究科
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永田 晃基
明治大学理工学部
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山口 拓也
明治大学理工学部
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小金澤 智之
財団法人高輝度光科学センター
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室 隆桂之
高輝度光科学研究セ
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小椋 厚志
明治大学理工学研究科
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木下 豊彦
高輝度光科学光科学研究センター
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廣沢 一郎
Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)
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山口 拓也
島根医科大学 第三内科
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広沢 一郎
Nec分析評価センター
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田中 宏明
東北大学大学院工学研究科
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須川 成利
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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田中 宏明
東北大学未来科学技術共同研究センター
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中尾 幸久
東北大学大学院工学研究科
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小椋 厚志
明治大学理工学部
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Teramoto Akinobu
Tohoku Univ. Sendai Jpn
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室 隆桂之
Jasri/spring-8
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山口 拓也
島根大学医学部附属病院
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室 隆桂之
SPring-8-JASRI
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廣澤 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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田中 宏明
東北大学未来科学共同センター
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室 隆桂之
高輝度光科学光科学研究センター
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須川 成利
東北大学大学院 工学研究科
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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室 隆桂之
財団法人高輝度光科学研究センター
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻
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室隆 佳之
JASRI
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阿部 健一
日本大学工学部情報工学科
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大
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広沢 一郎
NEC
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広沢 一郎
高輝度光科学研究センター
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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広沢 一郎
Jasri
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廣沢 一郎
高輝度光科学研究センター(spring-8)
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廣沢 一郎
(財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学研究センター
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池永 英司
Crest・jst
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池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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梅田 浩司
ULSI技術開発センター
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樋口 正顕
株式会社東芝
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荒谷 崇
信越化学工業株式会社
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牛尾 二郎
株式会社日立製作所
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河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
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藤澤 孝文
東北大学大学院工学研究科
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渡部 俊一
東北大学大学院工学研究科
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宮本 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
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譽田 正宏
東北大学未来科学技術共同研究センター
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
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熊谷 勇喜
東北大学工学部電子工学科
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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木下 豊彦
高輝度光科学研究センター利用研究促進部門
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広沢 一郎
Necデバイス評価技術研究所
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小椋 厚志
明治大学理工学部電気電子生命学科
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阿部 健一
東北大 大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大学工学部電気系
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阿部 健一
東北大学工学部電気工学科
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小瀬村 大亮
明治大学理工学部
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服部 真季
明治大学理工学部
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武井 宗久
明治大学理工学部
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赤松 弘彬
明治大学理工学部
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富田 基裕
明治大学理工学部
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水上 雄輝
明治大学理工学部
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橋口 裕樹
明治大学理工学部
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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小瀬村 大亮
明治大学理工学部:日本学術振興会
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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阿部 健一
東北大学大学院
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大見 忠弘
東北大学大学院工学研究科
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宮本 直人
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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室隆 佳之
高輝度光科学研究センター(jasri Spring-8)
-
池永 英司
高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ
-
池永 英司
Jasri/spring-8
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李 翔
東北大学大学院工学研究科
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室隆 桂之
高輝度光科学研究センター
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加藤 有香子
高輝度光科学研究センター
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科:東北大学未来科学共同センター
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加藤 有香子
高輝度光科学研究セ
著作論文
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
- ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
- シリコン表面の原子オーダー平坦化技術(プロセス科学と新プロセス技術)
- 大規模アレイTEGによるトンネル絶縁膜の微小・局所的ゲート電流の統計的評価(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- ラジカル酸化法により形成したSiO_2/Si界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- 大規模アレイTEGにより評価した低ビットエラーのKr/O_2/NOトンネル酸窒化膜の形成
- 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
- 微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- PECVD法を用いたゲートスペーサー用高品質シリコン窒化膜の低温形成プロセス(プロセス科学と新プロセス技術)
- SiO_2/Si(100)界面における組成遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道(プロセス科学と新プロセス技術)
- 微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価