荒谷 崇 | 信越化学工業株式会社
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概要
関連著者
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
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樋口 正顕
株式会社東芝
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荒谷 崇
信越化学工業株式会社
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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池永 英司
Crest・jst
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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荒谷 崇
東北大学大学院工学研究科
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樋口 正顕
東北大学大学院工学研究科
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池永 英司
高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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池永 英司
Jasri/spring-8
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大見 忠弘
東北大学
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須川 成利
東北大学工学研究科技術社会システム
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樋口 正顕
東北大学工学研究科
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品川 誠治
武蔵工業大学工学部
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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牛尾 二郎
株式会社日立製作所
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荒谷 崇
東北大学工学研究科技術社会システム専攻
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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濱田 龍文
東北大学大学院工学研究科
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服部 武雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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品川 盛治
武蔵工業大学
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諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
著作論文
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性