田中 宏明 | 東北大学未来科学共同センター

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概要

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• 東北大学未来科学共同センターの論文著者

関連著者

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 田中 宏明

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 中尾 幸久

  東北大学大学院工学研究科

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

• 田中 宏明

  東北大学未来科学共同センター

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• 田中 宏明

  東北大学大学院工学研究科

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 大見 忠弘

  東北大学

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 黒田 理人

  東北大学工学研究科

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学共同センター

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 宮本 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 宮本 直人

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科:東北大学未来科学共同センター

• 須川 成利

  東北大学大学院 工学研究科

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著作論文

• n^+-、p^+-Si領域に最適なシリサイドを用いた高電流駆動能力トランジスタ(プロセス科学と新プロセス技術)
• ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
• PECVD法を用いたゲートスペーサー用高品質シリコン窒化膜の低温形成プロセス(プロセス科学と新プロセス技術)
• シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道(プロセス科学と新プロセス技術)

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