Electric characteristics of Si_3N_4 films formed by directly radical nitridation on Si (110) and Si (100) surfaces

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概要

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• 2006-09-13

著者

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• TERAMOTO Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Kobayashi Keisuke

  JASRI SPring8

• SUGAWA Shigetoshi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Sugawa S

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• Ikenaga Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute

• Hattori Tetsuya

  Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology

• ARATANI Takashi

  Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

• HIGUCHI Masaaki

  TOSHIBA CORPORATION

• SUGAWA Sigetoshi

  Tohoku University

• NOHIRA Hiroshi

  Musashi Institute of Technology

• HATTORI Takeo

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• HIGUCHI Masaaki

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• ARATANI Takashi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• HAMADA Tatsufumi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• TERAMOTO Akinobu

  The New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University

• HATTORI Takeo

  The New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University

• SHINAGAWA Seiji

  Musashi Institute of Technology

• IKENAGA Eiji

  JASRI/SPring8

• HIRAYAMA Masaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Hattori Takashi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Hirayama Masaki

  Toshiba Corporation

• Nohira Hiroshi

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• Hattori T

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Nakazawa Hiroshi

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Hattori Takeo

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• Aratani Takashi

  Shin-etsu Chemical Co. Ltd.

• Hamada Tatsufumi

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Kobayashi Keisuke

  Jasri/spring8

• Ikenaga Eiji

  JASRI/Spring-8, Kouto, Mikazuki, Hyogo 679-5198, Japan

• IKENAGA Eiji

  JASRI/Spring-8

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