堀 充明 | 富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
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概要
関連著者
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堀 充明
富士通
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堀 充明
富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
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富士通株式会社
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富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
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富士通プロセス開発部第1開発部
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著作論文
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- 極薄シリコン酸窒化膜の種々の結合形態にある窒素原子の深さ方向分布(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
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- 超低電圧動作を可能にするチャネルエンジニアリング(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))