杉井 寿博 | 富士通

スポンサーリンク

概要

• 杉井 寿博の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 富士通の論文著者

関連著者

• 杉井 寿博

  富士通

• 杉井 寿博

  (株)富士通研究所

• 杉井 寿博

  富士通研究所

• 後藤 賢一

  富士通株式会社 次世代lsi開発事業部

• 後藤 賢一

  (株)富士通研究所

• 籾山 陽一

  富士通マイクロエレクトロニクス株式会社

• 杉井 寿博

  富士通マイクロエレクトロニクス株式会社

• 籾山 陽一

  富士通(株)

• 杉井 寿博

  富士通マイクロエレクトロニクス

• 山崎 辰也

  富士通・半導体プロセス開発部

• 山崎 辰也

  (株)富士通研究所

• 倉田 創

  (株)富士通研究所 基盤技術研究所

• 若林 整

  NEC

• 若林 整

  NEC(株)システムデバイス研究所

• 若林 整

  NECラボラトリーズシステムデバイス・基礎研究本部シリコンシステム研究所

• 黒田 忠広

  慶応大学

• 井上 淳樹

  (株)富士通研究所

• 杉井 寿博

  富士通研究所 デバイス開発部

• 籾山 陽一

  (株)富士通研究所

• 立岡 真人

  (株)富士通研究所

• 山崎 辰也

  富士通研究所

• 出浦 学

  富士通研究所

• 小林 胤雄

  東芝セミコンダクター社

• 高柳 万里子

  東芝セミコンダクター社

• 奈良 安雄

  (株)富士通研究所

• 奈良 安雄

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 児島 学

  富士通

• 森岡 博

  富士通(株)

• 森 年史

  富士通(株)

• 橋本 浩一

  富士通(株)

• 大田 裕之

  富士通、あきる野テクノロジセンター

• 小倉 輝

  富士通、あきる野テクノロジセンター

• 田村 直義

  富士通研究所

• 野瀬 浩一

  Nec

• 横山 直樹

  (株)富士通研究所

• 橋本 浩一

  富士通プロセス開発部第1開発部

• 二木 俊郎

  株式会社富士通研究所

• 横山 直樹

  株式会社富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター

• 若林 整

  ソニー(株)

• 青山 敬幸

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 臼杵 達哉

  (株)富士通研究所

• 加勢 正隆

  富士通(株)ULSI開発部

• 森 年史

  富士通株式会社

• 加勢 正隆

  富士通株式会社

• 堀口 直人

  株式会社富士通研究所

• 横山 直樹

  ナノテクノロジー研究センター株式会社富士通研究所

• 森岡 博

  富士通株式会社

• 田川 幸雄

  富士通

• ピディン S.

  富士通

• 稲垣 聡

  富士通

• 堀 充明

  富士通

• 大田 裕之

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• ピディン S.

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 籾山 陽一

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 小倉 輝

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 稲垣 聡

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 田村 直義

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 堀 充明

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 杉井 寿博

  富士通株式会社 次世代LSI開発事業部

• 加瀬 正隆

  富士通

• 奈良 安雄

  富士通研究所

• 臼杵 達哉

  株式会社富士通研究所

• 後藤 賢一

  株式会社富士通研究所

• 杉井 寿博

  株式会社富士通研究所

• 田村 直義

  富士通研究所、あきる野テクノロジセンター

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• 大田 裕之

  富士通研究所、あきる野テクノロジセンター

• 橋本 浩一

  富士通

• 田川 幸雄

  富士通株式会社

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 青山 敬幸

  富士通研究所

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 後藤 賢一

  富士通研究所

• 深野 哲

  富士通研究所

• 加勢 正隆

  富士通

• 野瀬 浩二

  Nec

• 深野 哲

  富士通研究所、ulsiプロセス研究部

• 青山 敬幸

  株式会社富士通研究所:(現)selete

• 出浦 学

  (株)富士通研究所

• 大竹 文雄

  (株)富士通研究所

• 横山 直樹

  株式会社富士通研究所

• 後藤 賢一

  富士通

• 田村 直義

  富士通セミコンダクター株式会社

もっと見る 閉じる

著作論文

• 65nmノード用高性能25nm CMOS技術
• 極薄トンネル酸化膜を有するフローティングゲートメモリ : ダイレクトトンネルメモリ(DTM)
• サブ0.1μmCMOS技術 (特集 21世紀に向けた研究開発)
• 低Vth設計・低電圧動作によるCMOSデバイスの低消費電力化
• Tox,VdスケーリングによるCMOSデバイスの低消費電力化
• 極薄Si直接窒化・酸化ゲート絶縁膜の評価
• 浅いソース・ドレイン接合をもつ微細pMOSFETの特性
• 浅いソース・ドレイン接合をもつ微細pMOSFETの特性
• ディープサブミクロンCMOSインバータの遅延時間削減への検討
• 高速,低電圧動作のためのディープサブミクロンCMOSデバイス技術(ディープサブミクロンMOSトランジスタ技術小特集)
• [パネルディスカッション]デバイス・回路技術者協議 : ゲートリーク問題は誰が解くか?(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
• [パネルディスカッション]デバイス・回路技術者協議 : ゲートリーク問題は誰が解くか?(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク