青山 敬幸 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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青山 敬幸
(株)半導体先端テクノロジーズ
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青山 敬幸
富士通研究所
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青山 敬幸
株式会社富士通研究所:(現)selete
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宮崎 誠一
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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東 大介
広島大学大学院先端物質科学研究科
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中島 尚男
兵庫大
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大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
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村上 秀樹
広島大学大学院先端物質科学研究科
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東 清一郎
広島大学大学院先端物質科学研究科
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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長谷川 繁彦
阪大・産研
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長谷川 繁彦
大阪大学産業科学研究所
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山崎 辰也
富士通・半導体プロセス開発部
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山崎 辰也
(株)富士通研究所
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吉永 博路
広島大学大学院先端物質科学研究科
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芝原 健太郎
広大
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福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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保坂 公彦
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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福留 秀暢
富士通研究所
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保坂 公彦
富士通研究所
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杉井 寿博
富士通研究所
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有本 宏
MIRAI-Selete
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田代 浩子
株式会社富士通研究所
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伊藤 隆司
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
富士通研究所 デバイス開発部
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中島 尚男
大阪大学産業科学研究所
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科
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伊藤 隆司
富士通研究所
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山崎 辰也
富士通研究所
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福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス
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鈴木 邦広
富士通研究所
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田代 浩子
富士通研究所
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多田 陽子
富士通研究所
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有本 宏
富士通研究所
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堀内 敬
富士通研究所
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宗高 勇気
広島大学大学院先端物質科学研究科
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芝原 健太郎
広島大学大学院先端物質科学研究科
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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宮崎 誠一
広島大学大学院先端物質科学研究科
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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杉井 寿博
富士通
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村上 秀樹
Department Of Orthopaedic Surgery Kanazawa University School Of Medicine
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東 清一郎
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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宮崎 誠一
広島大学大学院
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村上 秀樹
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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大田 晃生
広島大学大学院 先端物質科学研究科
著作論文
- 極薄Si直接窒化・酸化ゲート絶縁膜の評価
- 酸窒化ゲート絶縁膜を用いたPMOSの不均一なボロンの熱抜け
- NiSi/SiO_2界面近傍の化学結合状態およびNiSi層の実効仕事関数評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)