有本 宏 | MIRAI-Selete
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
有本 宏
MIRAI-Selete
-
有本 宏
富士通研究所
-
福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
-
福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス
-
青山 敬幸
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
青山 敬幸
株式会社富士通研究所:(現)selete
-
籾山 陽一
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
-
久保 智裕
富士通株式会社
-
福留 秀暢
株式会社富士通研究所
-
青山 敬幸
株式会社富士通研究所
-
有本 宏
富士通株式会社
-
籾山 陽一
富士通(株)
-
熊代 成孝
Mirai-selete
-
中島 尚男
兵庫大
-
多田 哲也
産総研次世代半導体研究センター
-
長谷川 繁彦
阪大・産研
-
長谷川 繁彦
大阪大学産業科学研究所
-
河村 栄一
富士通プロセス開発部第1開発部
-
鈴木 腕
株式会社半導体先端テクノロジーズ 基盤技術研究部
-
福留 秀暢
富士通研究所
-
田川 幸雄
富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
-
籾山 陽一
富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
-
坂本 浩則
MIRAI-Selete
-
増田 弘生
MIRAI-Selete
-
船山 敏
MIRAI-Selete
-
河村 栄一
富士通
-
田代 浩子
株式会社富士通研究所
-
金山 敏彦
産総研次世代半導体
-
西澤 正泰
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
-
中島 尚男
大阪大学産業科学研究所
-
田川 幸雄
富士通株式会社
-
青山 敬幸
富士通研究所
-
多田 哲也
産業技術総合研究所
-
鈴木 邦広
富士通研究所
-
田代 浩子
富士通研究所
-
多田 陽子
富士通研究所
-
堀内 敬
富士通研究所
-
福留 秀暢
(株)富士通研究所
-
久保 智裕
富士通(株)
-
有本 宏
富士通(株)
-
中村 智
富士通研究所
-
星 賢治
富士通
-
宮田 修一
富士通
-
中川 健二
富士通
-
Bolotov L.
アトムテクノロジー研究体-オングストロームテクノロジー研究機構
-
Bolotov Leonid
半導体miraiプロジェクト 産業技術総合研究所 ナノ電子デバイス研究センター
-
BOLOTOV Leonid
アトムテクノロジー研究体-オングストロームテクノロジー研究機構
-
金山 敏彦
産業技術総合研 次世代半導体研究セ
-
福田 浩一
産業技術総合研究所
-
BOLOTOV Leonid
筑波大学
-
鈴木 腕
富士通セミコンダクター
-
佐藤 成生
富士通セミコンダクター
-
有本 宏
産業技術総合研究所
-
西澤 正泰
産業技術総合研
-
西澤 正泰
産業技術総合研究所
著作論文
- チャネル不純物分布を正確に反映した離散化表面ポテンシャルモデルとその超高速不純物濃度ばらつき解析への応用(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- ゲートLERがsub-50nm N-MOSFETのextension不純物分布へ及ぼす影響の直接評価(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 酸窒化ゲート絶縁膜を用いたPMOSの不均一なボロンの熱抜け
- 微細MOSトランジスタの加工揺らぎが二次元キャリア分布に及ぼす影響の直接測定
- Sub-100nm MOSFETのエクステンション領域におけるキャリア分布評価(先端CMOS及びプロセス関連技術)
- エリプソメトリー法による微細パターンモニター
- STMによるキャリア分布測定のデバイスシミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)