青山 敬幸 | 株式会社富士通研究所:(現)selete
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
青山 敬幸
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
青山 敬幸
株式会社富士通研究所:(現)selete
-
福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
-
青山 敬幸
株式会社富士通研究所
-
福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス
-
福留 秀暢
株式会社富士通研究所
-
有本 宏
MIRAI-Selete
-
有本 宏
富士通研究所
-
籾山 陽一
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
-
久保 智裕
富士通株式会社
-
田代 浩子
株式会社富士通研究所
-
有本 宏
富士通株式会社
-
籾山 陽一
富士通(株)
-
青山 敬幸
富士通研究所
-
中島 尚男
兵庫大
-
森岡 博
富士通(株)
-
杉井 寿博
(株)富士通研究所
-
長谷川 繁彦
阪大・産研
-
長谷川 繁彦
大阪大学産業科学研究所
-
山崎 辰也
富士通・半導体プロセス開発部
-
山崎 辰也
(株)富士通研究所
-
福留 秀暢
富士通研究所
-
杉井 寿博
富士通研究所
-
田島 貢
富士通株式会社
-
森岡 博
富士通株式会社
-
田川 幸雄
富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
-
籾山 陽一
富士通株式会社 次世代LSI開発事業部
-
籾山 陽一
株式会社富士通研究所
-
吉田 英司
株式会社富士通研究所
-
吉田 英司
富士通研究所
-
伊藤 隆司
(株)富士通研究所
-
杉井 寿博
富士通研究所 デバイス開発部
-
中島 尚男
大阪大学産業科学研究所
-
田川 幸雄
富士通株式会社
-
伊藤 隆司
富士通研究所
-
山崎 辰也
富士通研究所
-
鈴木 邦広
株式会社富士通研究所
-
鈴木 邦広
富士通研究所
-
田代 浩子
富士通研究所
-
多田 陽子
富士通研究所
-
堀内 敬
富士通研究所
-
伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
-
杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
-
杉井 寿博
富士通
著作論文
- Sub-50nm MOSFETにおけるポリゲート起因キャリア分布ばらつきの抑制(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- ゲートLERがsub-50nm N-MOSFETのextension不純物分布へ及ぼす影響の直接評価(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 極薄Si直接窒化・酸化ゲート絶縁膜の評価
- SiO_2中のB、P、As、Sbの拡散の雰囲気依存(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 酸窒化ゲート絶縁膜を用いたPMOSの不均一なボロンの熱抜け
- Sub-100nm MOSFETのエクステンション領域におけるキャリア分布評価(先端CMOS及びプロセス関連技術)