微細MOSトランジスタの加工揺らぎが二次元キャリア分布に及ぼす影響の直接測定
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概要
著者
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福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
-
籾山 陽一
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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久保 智裕
富士通株式会社
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有本 宏
MIRAI-Selete
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籾山 陽一
富士通(株)
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福留 秀暢
富士通マイクロエレクトロニクス
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有本 宏
富士通研究所
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福留 秀暢
(株)富士通研究所
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久保 智裕
富士通(株)
-
有本 宏
富士通(株)
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