多田 哲也 | 産業技術総合研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
多田 哲也
産業技術総合研究所
-
多田 哲也
産総研次世代半導体研究センター
-
金山 敏彦
産総研次世代半導体
-
金山 敏彦
産総研ナノ電子デバイス研究センター:筑波大学数理物質科学研究科
-
上田 太郎
産業技術総合研究所
-
平塚 祐一
北陸先端大・マテリアル
-
多田 哲也
産総研・次世代半導体研究センター
-
日浦 英文
NEC基礎・環境研
-
金山 敏彦
産総研・次世代半導体研究センター
-
日浦 英文
NEC 基礎研
-
日浦 英文
NECナノエレ研
-
金山 敏彦
産業技術総合研 次世代半導体研究セ
-
日浦 英文
Nec基礎研
-
多田 哲也
産総研・次世代半導体
-
内田 紀行
産総研ナノ電子デバイス研究センター
-
金山 敏彦
産業技術総合研究所
-
上田 太郎
産総研・ジーンファンクション
-
金山 敏彦
アトムテクノロジー研究体 産業技術総合領域研究所
-
古賀 健司
産業技術融合領域研
-
古賀 健司
産業技術融合領域研究所
-
平塚 祐一
産総研・ジーン
-
多田 哲也
JRCAT-NAIR
-
金山 敏彦
JRCAT-NAIR
-
多田 哲也
アトムテクノロジー研究体, 産業技術融合領域研究所
-
福田 浩一
産業技術総合研究所
-
BOLOTOV Leonid
筑波大学
-
鈴木 腕
富士通セミコンダクター
-
佐藤 成生
富士通セミコンダクター
-
有本 宏
産業技術総合研究所
-
西澤 正泰
産業技術総合研
-
金山 敏彦
JRCAT-AIST
-
大岩 和弘
通信総合研究所・生体物性G
-
鈴木 腕
株式会社半導体先端テクノロジーズ 基盤技術研究部
-
西澤 正泰
半導体MIRAI産業技術総合研究所次世代半導体研究センター
-
有本 宏
MIRAI-Selete
-
西澤 正泰
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
-
中山 高博
Jrcat-atp
-
内田 紀行
産総研・次世代半導体研究センター
-
内田 紀行
産総研次世代半導体研究センター
-
ポボロッチ ウラジミールV.
産業技術総合研究所
-
植草 弘一郎
JRCAT-NAIR
-
Preece J.
Univ. Birmingham
-
平塚 祐一
工技院・融合研
-
多田 哲也
工技院・融合研
-
金山 敏彦
工技院・融合研
-
上田 太郎
工技院・融合研
-
大岩 和弘
情報通信研究機構
-
Bolotov L.
アトムテクノロジー研究体-オングストロームテクノロジー研究機構
-
Bolotov Leonid
半導体miraiプロジェクト 産業技術総合研究所 ナノ電子デバイス研究センター
-
BOLOTOV Leonid
アトムテクノロジー研究体-オングストロームテクノロジー研究機構
-
大岩 和弘
通信総合研
-
植草 弘一郎
Jrcat-nair:青学大理工
-
西澤 正泰
産業技術総合研究所
著作論文
- 金属クラスターを用いた10nm径シリコン円柱列のエッチング加工 (特集 ナノ加工技術)
- 13pWH-6 フッ化フラーレンとシリコン基板表面の電荷移動(FET, 領域 8)
- 14aYD-3 電荷移動ドーピングと点電荷モデルによるシミュレーション(ナノチューブ伝導, 領域 7)
- 13pWH-6 フッ化フラーレンとシリコン基板表面の電荷移動(FET, 領域 7)
- 3R1400 酵素により駆動される微小運動素子の創製(28.バイオエンジニアリング,一般講演,日本生物物理学会第40回年会)
- 金属クラスターを用いたシリコンナノ円柱の加工とフォトニック結晶の作製
- 3P151ジュール熱による局所領域のキネシンモーターの活性制御
- 25pYF-12 フラーレンおよびその誘導体の電子線照射による構造変化
- 1B1700 キネシン分子で駆動される微小管運動を操る
- 新結晶・新物質 金属クラスターを形成核とするナノ構造の自己形成的エッチング加工
- 25aL-8 金属クラスターを凝縮核とする自己形成マスクを用いたナノ構造のエッチング加工
- 金属クラスターを形成核とするナノ構造のエッチング加工
- 金属クラスタを用いたナノ構造の形成
- 固体物理の応用--フラ-レンを利用した電子線露光用レジストの開発
- STMによるキャリア分布測定のデバイスシミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- STMによるキャリア分布測定のデバイスシミュレーション