内田 紀行 | 産総研次世代半導体研究センター
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概要
関連著者
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内田 紀行
産総研ナノ電子デバイス研究センター
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金山 敏彦
産総研ナノ電子デバイス研究センター:筑波大学数理物質科学研究科
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金山 敏彦
産総研次世代半導体
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内田 紀行
産総研次世代半導体研究センター
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木村 薫
東大・新領域
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桐原 和大
産総研ナノテク
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木村 薫
東大 工
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多田 哲也
産総研次世代半導体研究センター
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大柳 宏之
産総研光技術部門
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桐原 和大
産総研界面ナノ
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産総研・ナノ電子デバイス研究センター
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NEC基礎・環境研
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多田 哲也
産業技術総合研究所
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NEC 基礎研
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金藤 浩史
産総研次世代半導体研究センター
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木村 薫
東大大学院新領域
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NECナノエレ研
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金山 敏彦
半導体miraiプロジェクト 産業技術総合研究所 ナノ電子デバイス研究センター
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宮崎 剛英
産総研計算科学
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日浦 英文
Nec基礎研
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桐原 和大
東大IML:東大新領域
著作論文
- 13pWH-6 フッ化フラーレンとシリコン基板表面の電荷移動(FET, 領域 7)
- 26aTF-4 遷移金属内包シリコンクラスター薄膜の合成と構造評価(ゼオライト・クラスター,領域7,分子性固体・有機導体)
- 12aYB-12 遷移金属-Si クラスター TMSi_ (TM=Hf, Ta, W, Re, Os, Ir) の安定性(低対称系・格子欠陥, 領域 4)