後藤 賢一 | (株)富士通研究所
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概要
関連著者
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後藤 賢一
富士通株式会社 次世代lsi開発事業部
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後藤 賢一
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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杉井 寿博
富士通
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山崎 辰也
富士通・半導体プロセス開発部
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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杉井 寿博
富士通研究所
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山崎 辰也
(株)富士通研究所
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籾山 陽一
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
著作論文
- デカボランイオン注入による損傷の形成とその増速拡散への影響
- 65nmノード用高性能25nm CMOS技術
- 65nmノード用高性能25nm CMOS技術(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- 極薄トンネル酸化膜を有するフローティングゲートメモリ : ダイレクトトンネルメモリ(DTM)
- サブ0.1μmCMOS技術 (特集 21世紀に向けた研究開発)
- ディープサブミクロンCMOSインバータの遅延時間削減への検討
- 高速,低電圧動作のためのディープサブミクロンCMOSデバイス技術(ディープサブミクロンMOSトランジスタ技術小特集)
- 0.1μm CMOS用サリサイドプロセスの最適化
- 0.1μmCMOS用サリサイドプロセスの最適化