瀬木 利夫 | 京都大学 大学院工学研究科 原子核工学専攻
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概要
関連著者
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瀬木 利夫
京都大学 大学院工学研究科 原子核工学専攻
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松尾 二郎
京都大学 大学院工学研究科 附属量子理工学教育研究センター
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青木 学聡
京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
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青木 学聡
クラスターイオンビーム集中研究体
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Aoki Takaaki
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
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二宮 啓
山梨大学大学院 医学工学総合研究部
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中田 由彦
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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山田 公
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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瀬木 利夫
京都大学工学研究科付属イオン工学実験施設
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市木 和弥
京大工
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松尾 二郎
京都大学大学院工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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山田 公
京大
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山田 公
京都大学
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二宮 啓
京大工
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松尾 二郎
京大工
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瀬木 利夫
京大工
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青木 学聡
京大工
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二宮 啓
京大院工QSEC
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市木 和弥
京大院工QSEC
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中田 由彦
京大院工QSEC
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瀬木 利夫
京大院工QSEC
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青木 学聡
京大院工QSEC
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松尾 二郎
京大院工QSEC
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瀬木 利夫
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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田能村 昌宏
京都大学工学部付属イオン工学実験施設
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中田 由彦
京大工
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本田 善郎
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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青木 学聡
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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田能村 昌宏
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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後藤 賢一
富士通株式会社 次世代lsi開発事業部
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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草場 拓也
京都大学工学研究科付属イオン工学実験施設
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青木 学聡
京都大学工学研究科付属イオン工学実験施設
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加勢 正隆
富士通(株)ULSI開発部
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後藤 賢一
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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高岡 義寛
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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加勢 正隆
富士通株式会社
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山田 英丙
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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二宮 啓
京都大学大学院工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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本田 善郎
京大工
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加瀬 正隆
富士通
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北川 晃幸
(株)野村鍍金
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金原 啓道
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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瀬木 利夫
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
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青木 学聡
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
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北川 晃幸
(株)野村鍍金 技術部
著作論文
- クラスタイオンビームによる平坦化加工技術
- デカボランイオン注入による損傷の形成とその増速拡散への影響
- イオン衝突によるシリコン表面欠陥の高温STM観察
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性)
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロララスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 23aRB-2 巨大Arクラスター衝突によりSiから生成される二次イオンにおける入射速度効果(放射線物理(散乱素過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19aXJ-4 サイズ選別されたクラスターイオン照射における二次イオン収率測定(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26pWD-7 サイズ選別されたクラスターイオンにより生成される二次イオンの測定(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 28aTA-6 スパッタリングにおけるイオン化確率の入射クラスターイオン種依存性(28aTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展 (特集 クラスタービームとその応用技術)
- 高速重イオンを利用したイメージング質量分析
- 24aRB-2 高分解能イメージング質量分析へ向けたイオン入射条件の探索(原子分子・放射線融合(イオン-表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19pYR-5 巨大ガスクラスターイオン衝突による半導体材料からの二次イオン放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用 (小特集 イオン技術の新しい発展)
- ガスクラスターイオンビームの大電流化及び表面高機能化
- 塩素クラスターによる高速加工
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展
- 液体多原子イオンビームの生成と表面照射効果
- クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用