26pWD-7 サイズ選別されたクラスターイオンにより生成される二次イオンの測定(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 2006-08-18
著者
-
松尾 二郎
京都大学 大学院工学研究科 附属量子理工学教育研究センター
-
瀬木 利夫
京都大学 大学院工学研究科 原子核工学専攻
-
二宮 啓
山梨大学大学院 医学工学総合研究部
-
青木 学聡
京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
-
市木 和弥
京大工
-
二宮 啓
京大院工QSEC
-
市木 和弥
京大院工QSEC
-
中田 由彦
京大院工QSEC
-
瀬木 利夫
京大院工QSEC
-
青木 学聡
京大院工QSEC
-
松尾 二郎
京大院工QSEC
-
中田 由彦
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
-
Aoki Takaaki
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
青木 学聡
クラスターイオンビーム集中研究体
関連論文
- クラスタイオンビームによる平坦化加工技術
- 27aXP-7 レーザイオン化による固体からの二次中性粒子の質量分布測定(放射線物理)(領域1)
- A Processing Technique for Cell Surfaces Using Gas Cluster Ions for Imaging Mass Spectrometry
- マルチビーム薄膜形成装置の開発
- デカボランイオン注入による損傷の形成とその増速拡散への影響
- イオン衝突によるシリコン表面欠陥の高温STM観察
- クラスターイオン注入とデバイスプロセス
- ガスクラスタイオンビームの生成と応用
- ガスクラスターイオンビームによる表面エッチング
- ガスクラスターイオンビームプロセッシング
- ガスクラスタ-イオンビ-ムによる固体表面プロセス
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性)
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロララスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 分子動力学法によるホウ素クラスターイオン注入のシミュレーション
- ガスクラスターイオンビームによるSiC表面平坦化
- 50 keVでリンイオンを注入した放射線治療用シリカガラスの性質
- ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 31p-PSB-6 クラスターイオンの表面散乱
- クラスターイオンビームによる医用材料の表面改質 (特集 生命機能と材料--生命機能マテリアル/生命現象マテリアル) -- (侵しゅうの低い医療を目指して--物理機能系材料の創出)
- 擬似体液を用いた人工材料へのアパタイトコーティング (特集 生体セラミックスのコーティング技術)
- 酸素クラスターイオンビームを照射した高分子基板上へのアパタイト形成(周期空間と相互作用する新しいセラミックスのマテリアルデザインとプロセッシング)
- 酸素クラスターイオンビーム援用蒸着法によるSi基板上への光触媒TiO_2薄膜の作製(半導体Si及び関連材料・評価)
- 液体クラスターイオンビームによるSi基板表面照射効果(シリコン関連材料の作製と評価)
- 23aRB-2 巨大Arクラスター衝突によりSiから生成される二次イオンにおける入射速度効果(放射線物理(散乱素過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19aXJ-4 サイズ選別されたクラスターイオン照射における二次イオン収率測定(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26pWD-7 サイズ選別されたクラスターイオンにより生成される二次イオンの測定(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 28aTA-6 スパッタリングにおけるイオン化確率の入射クラスターイオン種依存性(28aTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展 (特集 クラスタービームとその応用技術)
- 高速重イオンを利用したイメージング質量分析
- 24aRB-2 高分解能イメージング質量分析へ向けたイオン入射条件の探索(原子分子・放射線融合(イオン-表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- クラスターイオンの新しい展開--ナノプロセスから先端分析応用
- 19aXJ-5 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出III(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26pWD-8 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出II(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 28pTA-9 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出(28pTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 19pYR-9 MeV重イオン衝撃スパッタリングによる励起状態分子放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 19pYR-5 巨大ガスクラスターイオン衝突による半導体材料からの二次イオン放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aYJ-9 高速イオン衝撃スパッタリングによる中性粒子の収量及び放出エネルギー測定(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aYJ-8 固体からの高速イオン衝撃誘起正負クラスターイオンのサイズ分布から見る放出機構解明(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aYJ-6 複数の方法で測定した全スパッタリング収率の比較(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 12aTG-6 MeV 重イオン照射により固体から放出された中性粒子の運動エネルギー分布測定(放射線物理, 領域 1)
- 12aTG-5 MeV エネルギー領域での絶縁体及び金属の全スパッタリング収率測定(放射線物理, 領域 1)
- 27axP-8 水晶振動子を用いたMeV領域での全収率測定の検証(放射線物理)(領域1)
- ポリアトミッククラスターイオン注入による浅い接合形成
- 200kVArガスクラスターイオンビームによる浅い注入層の形成
- 21pTD-5 MeV 重イオン衝撃による固体からのクラスター形成に関する考察
- 21pTD-4 重イオン照射による化合物半導体からの二次イオン放出機構
- 28pXD-10 重イオン照射による化合物半導体からのクラスターイオン放出 II
- 18pTD-8 高速重イオン照射によるGaAs及びSiターゲットからの二次イオン放出
- 28pZE-8 重イオン衝撃によるAl_2O_3ターゲットからの二次イオン放出の特異性
- 25pYJ-5 重イオン照射による二次イオン放出の固体物性依存
- 24pA-2 重イオン照射により発生する二次イオンのエネルギー分布の固体物性依存
- ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)
- ICBによるエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の形成と応用
- ICBによるSi基板上のエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の共鳴トンネルデバイスへの検討
- クラスターイオン衝突の密度効果
- Unilateral Renal Hypoplasia Associated With Bicuspid Aortic Valve
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用 (小特集 イオン技術の新しい発展)
- ガスクラスターイオンビームの大電流化及び表面高機能化
- レーザ誘起昇温脱離法(LITD)によるプラズマエッチング中の試料表面の評価
- 低エネルギーホウ素イオン注入におけるホウ素の蓄積・脱離過程のシミュレーション
- 分子動力学法を用いたFイオン照射によるSi表面エッチングのシミュレーション
- Occurrence of (+)-α-Cedrene in Larix leptolepis Callus
- ガスクラスターイオンビームを用いた半導体表面処理技術の開発
- イオン工学的手法による高機能薄膜形成・結晶成長に関する現況
- Carbon Nanotubes from a Divided Catalyst : the Carbon Transmission Method
- Correlation Between the Age of Pinealectomy and the Development of Scoliosis in Chickens
- 塩素クラスターによる高速加工
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展
- A Possible Role of Incoming Spike Synchrony in Associative Memory Model with STDP Learning Rule(Oscillation, Chaos and Network Dynamics in Nonlinear Science)
- 反応性クラスターイオンビームによるエッチング
- 29p-PSB-30 クラスターイオンによるスパッタリング
- クラスターイオンビームによる先端加工プロセス (特集 最近のオプトメカトロニクス用材料の加工・洗浄技術を追う)
- 液体多原子イオンビームの生成と表面照射効果
- クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用
- クラスタ-イオンビ-ム(ICB)技術による光学薄膜材料創製 (光源材料--表面・界面特性)